Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9315797 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist ein Photoresist für die Herstellung von Halbleiterbauelementen. Es basiert auf einem hoch fortgeschrittenen Gefolge von Steindruckverfahrenelementen, einschließlich eines GEFÜHRTEN - gestütztes Aussetzungsmodul, ein 'Verschluss'-Modul, ein Flüssigkristallgerätmustergenerator, ein optischer Zusammenbau und ein Oblatenberührensystem. Zusammen ermöglichen diese Komponenten eine zuverlässige und konsistente Lieferung von Photolack während des Lithographie-Prozesses. Das LED-basierte Belichtungsmodul nutzt eine ultraviolette Beleuchtung, um Photolack auf der Oberfläche eines Wafers zu belichten. Dieses Modul ist in der Lage, hochwertige Bilder mit einer sehr kurzen Belichtungszeit zu erzeugen. Darüber hinaus hat es eine präzise Steuerung der Lichtintensität, die eine detaillierte Strukturierung des Fotolacks auch bei kleineren Merkmalsgrößen ermöglicht. Das Verschlussmodul dient zur genauen Waferausrichtung und Belichtungssteuerung. Es ist mit einer motorisierten Einheit ausgestattet, die es ermöglicht, seine Position einzustellen, um bestimmte Bereiche während der Verarbeitung von der Belichtung auszuschließen. Dadurch wird sichergestellt, dass während des Belichtungsprozesses keine unerwünschten Merkmale auf den Wafer gedruckt werden. Der Flüssigkristallgerätmustergenerator wird für den Komplex verwendet photowiderstehen dem Mustern. Es funktioniert durch die Kombination einer hohen (5 μ m) räumlichen Auflösung Muster-Generator-Platine mit einer hohen Geschwindigkeit (kHz) Flüssigkristall-Gerät. Diese Kombination ermöglicht eine präzise Steuerung der Mustereinheitlichkeit, wodurch sichergestellt ist, dass keine Muster auf dem Wafer ungleichmäßig erscheinen. Die optische Baugruppe von TEL Lithius besteht aus hochwertigen Linsen und Platinen, die eine sehr hohe Lichtintensität und ein breites Spektrum an Wellenlängen gewährleisten. In Kombination mit dem LED-basierten Belichtungsmodul bietet dies eine sehr glatte und gleichmäßige Belichtung der Waferoberfläche mit Photolack. Schließlich sorgt die Wafer-Handhabungsmaschine für dieses Werkzeug dafür, dass die Wafer während des Belichtungsprozesses stillgehalten werden. Diese Anlage ist mit einem gesteuerten Magnetfeld mit xyz-Bewegungsstufen ausgestattet, das zur präzisen Ausrichtung und Positionierung von Wafern verwendet werden kann. Dies ist wichtig, da jede Bewegung des Wafers während des Lithographieprozesses die Strukturierung beeinflussen und zu Leistungsabweichungen führen würde. Abschließend ist TOKYO ELECTRON Lithius ein hochentwickeltes Photoresist-Modell, das aus einer Reihe hochentwickelter Komponenten besteht, die eine zuverlässige und konsistente Belichtung von Photoresist auf Waferoberflächen ermöglichen. Die Genauigkeit und das Detail der Strukturierung, die sie herstellen kann, eignet sich auch für komplexeste Halbleiterherstellungsaufgaben.