Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9351478 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung, die sowohl in der Halbleiter- als auch in der Photomasken-Herstellung verwendet wird. Dieses System nutzt eine ausgeklügelte direkte Schreiblaserlithographie (DWL), um feine Resistmuster zu erzeugen. Es hat eine Auflösungsfähigkeit von 25nm und eignet sich daher für die Erstellung der neuesten nanoskaligen Funktionen in beiden Geräten und der Photomaskenherstellung. TEL Lithius ist die neueste Photoresist-Technologie und bietet ein extrem hochauflösendes, hochdurchsatz- und kostengünstiges Photolithographie-Tool. Dieser Vorteil ist vielseitig genug, um in einer Vielzahl von verschiedenen Resist-Verfahren verwendet werden, von traditionellen positiv/negativ Photoresist Trockenfilm Photoresist und Spin-Coat Photoresists. Neben der fortschrittlichen Lithographie bietet das Modell TOKYO ELECTRON Lithius auch eine überlegene Prozesssteuerung mit einer bordeigenen Messtechnik, die das Resist-Reflexionsvermögen überwacht. Der Prozess der Resistmusterung beginnt mit der Beleuchtung des Photolacks. Lithius-System verwendet einen fokussierten Laser mit einer optischen Einheit, die den Laserstrahl genau ausrichtet, um den Photolack zu mustern. Diese Maschine ist in der Lage, ein einzelnes Resistmuster mit der feinsten Merkmalsgröße von 25 nm zu schreiben. Dann kann ein integriertes Werkzeug der chemischen Reinigung alle Verunreinigungen und andere Widerstände vom Substrat vor dem Entwicklungsschritt entfernen. Sobald der Resist entwickelt ist, ist er bereit, planarisiert und mit dem bordeigenen Metrologie-Asset metallisiert zu werden. TEL/TOKYO ELECTRON Das proprietäre Metrologiemodell von Lithius gibt Rückmeldung über die Resistreflexionsfähigkeit, um die Bedingungen des Substrats für den Metallabscheidungsprozess zu optimieren. Die messtechnische Ausrüstung ist auch in der Lage, die Ätzrate, Ätzgleichmäßigkeit und Metallabscheidungsrate zu überwachen. Nachdem das Photolacksystem seinen Resistmuster- und Metallabscheidungsprozess abgeschlossen hat, können weitere Nachbearbeitungsschritte wie chemisch-mechanische Planarisierung, Ätzen und Abscheiden von Dielektrika durchgeführt werden. Das resultierende Gerät ist dann zum Verpacken und Versand an den Kunden bereit. Das fortschrittliche Design und die Verarbeitungsfähigkeit von TEL Lithius machen es zu einer ausgezeichneten Wahl für alle Herstellungsverfahren von Halbleitern oder Photomasken. Mit seiner überlegenen Auflösung, dem hohen Durchsatz und der Leistung der Metrologieeinheit kann diese Maschine die Geräteerstellung beschleunigen und gleichzeitig Zykluszeiten und -kosten reduzieren.