Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9355511 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Hochleistungs-Photolackausrüstung für präzise Photolithographieverfahren. Es wird verwendet, um ultrafeine Strukturen auf Waferoberflächen für die Schaffung von Halbleiterbauelementen zu schaffen. Das System nutzt ein laserbasiertes Belichtungsverfahren in sechs Achsen und nutzt mehrwellige UV-Lichtquellen für eine präzise optische Belichtung. TEL Lithius besteht aus einer Tischplatten-Resistbeschichtungseinheit und einer laserbasierten Belichtungseinheit. Die Resistbeschichtungseinheit bietet eine Vielzahl von Beschichtungsverfahren und Beschichtungsgewichten, um sicherzustellen, dass die Photolackschichten gleichmäßig und konsistent sind. Der in dieser Maschine eingesetzte Photolack kann von positiv bis negativ variieren und enthält auch antireflektierende und ätzfeste Beschichtungen. Der laserbasierte Belichtungsprozess wird durch eine Reihe von Linsen und Spiegeln sowie ein hochverstärkendes Abbildungsgerät erzeugt. Das laserbasierte Belichtungsverfahren nutzt eine einzigartige Kombination aus linearer Optik und Ausrichtungstechnologien, um eine höhere Präzision und Wiederholbarkeit zu ermöglichen. Es steht auch eine variable Strukturabbildungstechnologie zur Verfügung, die eine Abbildung in unterschiedlichen Höhen auf dem Substrat ermöglicht, um einen 3D-Effekt zu erzeugen. Das Belichtungswerkzeug kann auch mit einer Mehrfachwellenlängenoptik zur Aufnahme unterschiedlichster Photolackmaterialien konfiguriert werden. TOKYO ELECTRON Lithius ist kompatibel mit einer Vielzahl bestehender bildgebender Systeme sowie aktuellen und kommenden Geräten. Darüber hinaus bietet es umfangreiche Asset-Flexibilität für die Aufnahme mehrerer Wafergrößen und Substrate. Zusätzlich wird das Modell durch ein robustes Kundenservice-Netzwerk und werkseitigen Service-Support unterstützt. Insgesamt ist Lithius ideal für die Herstellung modernster Halbleiterstrukturen. Seine benutzerfreundliche Schnittstelle, einstellbare lineare Stufen, leistungsstarke Bildgebungssysteme und Multiwellenlängenoptiken machen es zu einer idealen Ausrüstung für Präzisions-Lithographie-Prozesse. Das System kann die Anforderungen an die Entwicklung und Produktion verschiedener Geräte problemlos erfüllen.