Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9355520 zu verkaufen

ID: 9355520
Wafergröße: 12"
Coater / Developer system, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photolithographie-Ausrüstung, die eine spezialisierte Photoresist-Beschichtung verwendet, um Gerätemuster auf einen Wafer oder ein Substrat zu übertragen. Die Photolithographie ist ein Verfahren, bei dem eine bestimmte Fläche einer dünnen Schicht aus Photoresistmaterial ultraviolettem Licht ausgesetzt wird, wodurch das belichtete Material chemisch empfindlicher wird. Dies ermöglicht die chemische Entfernung des belichteten Materials zu Mustern in der Photolackschicht. Das Photolithographiesystem TEL Lithius nutzt ein fortschrittliches Beschichtungsverfahren, um komplexe Merkmale und Muster im Mikro- und Nanometermaßstab auf einer breiten Palette von Substraten zu erzeugen. Der erste Schritt im Photolithographieverfahren besteht darin, ein Substrat mit einem Film aus Photoresist zu beschichten. Ein Spender erzeugt eine gleichmäßige Schicht aus Photolack auf dem Substrat und richtet das zu erzeugende Muster automatisch aus. Der Photolack wird über eine komplexe optische Einheit (SITEX) ultraviolettem Licht ausgesetzt. Das ultraviolette Licht, das die Maske durchläuft, wird auf den Resist gerichtet, um das gewünschte Muster zu erzeugen. Anschließend wird der belichtete Resist entwickelt, wobei das belichtete Material zu Mustern entfernt wird. Das entwickelte Substrat wird anschließend bearbeitet, gewaschen und die Muster werden mit der SITEX-Maschine noch weiter reduziert. Neben der Erstellung von Funktionen im Mikro- und Nanometermaßstab ermöglicht das Photolithographie-Tool TOKYO ELECTRON Lithius auch den Einsatz hochauflösender Materialien zur Erstellung von Gerätemustern mit hoher Dichte. Die Anlage setzt auch fortschrittliche Automatisierungs- und Prozessüberwachungssysteme zur Qualitätskontrolle sowie eine breite Palette von Substraten ein und widersteht einer effektiven Kostensenkung. Das Photolithographie-Verfahren mit Lithius ist für die Herstellung und Strukturierung von Halbleiterbauelementen unerlässlich. Photoresists ermöglicht sehr schnelle und präzise Kontrolle über die Menge des Materials entfernt, so dass es das Hauptwerkzeug für Feinmuster. Das Modell bietet die Steuerung der Merkmalsgröße und anderer kritischer lithographischer Parameter, die für die Erstellung komplizierter Halbleiterbauelemente erforderlich sind. Das Gerät wird für die Herstellung von Transistoren, integrierten Schaltungen, Speicherchips, kompletten Mikroprozessoren und anderen Arten von elektronischen Komponenten verwendet.
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