Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9362296 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Anlage zur Entwicklung von integrierten Schaltungen (ICs), Dünnschichttransistoren (TFTs) und mikroelektromechanischen Systemen (MEMS). Das System verwendet eine Kombination aus Photolithographie, Ätz- und Beschichtungstechniken, um komplexe Muster auf Siliziumscheiben zu erzeugen, die dann zur Herstellung komplexer IC-, TFT- und MEMS-Geräte verwendet werden. TEL Lithius-Einheit beginnt mit einem unmaskierten Wafer, auf dem der Fotolack aufgebracht wird. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das verwendet wird, um lithographische Muster auf dem Wafer zu erzeugen. Eine Lichtquelle, wie ein maskenloser Projektor oder ein Kontaktdruckwerkzeug, dient dann dazu, Bereiche des Wafers Lichtmustern oder Bildern auszusetzen. Nach beendeter Belichtung wird der Wafer dann in einem Nachbelichtungsbacken erhitzt, der die belichtete Fläche des Photolacks aushärtet. Der nicht belichtete Anteil des Photolacks wird dann mit einem Chemie- oder Wasserentwickler entfernt. Es bleibt ein Muster belichteten Photolacks, das zur Weiterverarbeitung verwendet werden kann. Der nächste Schritt ist das Ätzen, bei dem das belichtete Muster mit einem Plasma, einer Ionenmühle, einem reaktiven Ionenätzer (RIE) oder einer anderen Technik auf das darunter liegende Substrat übertragen wird. Dieser Ätzschritt entfernt Verunreinigungen und gemusterten Photolack aus dem Wafer und erzeugt winzige Merkmale auf dem Substrat. Schließlich wird der strukturierte Wafer mit einem dünnen Film aus Metall oder anderem Material mittels physikalischer Aufdampfung (PVD) oder chemischer Aufdampfung (CVD) beschichtet. Diese Schicht schützt den darunterliegenden Wafer und fügt dem Gerät elektrische oder mechanische Eigenschaften, wie elektrische Leitfähigkeit oder Fähigkeit zum Biegen, hinzu. TOKYO ELECTRON Lithius Maschine ist ein wichtiges Werkzeug für die Herstellung von modernen ICs, TFTs und MEMS aufgrund seiner Fähigkeit, komplizierte Muster auf dem Wafer mit hoher Präzision zu schaffen. Die verfügbaren Masken, Lichtquellen und chemischen Ätzmittel ermöglichen es dem Werkzeug, hochpräzise 3D-Strukturen mit Funktionsgrößen zu erzeugen, die eine Auflösung auf Nanometerebene erreichen. Diese Ressource ist eines der wesentlichen Werkzeuge für die Entwicklung der nächsten Generation von Elektronik und Mikrosystemen.