Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9378255 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine Photoresist-Ausrüstung zur Resistverarbeitung in der Halbleiter- und Mikroelektronikindustrie. Das System ermöglicht eine hochauflösende Strukturierung von Metallisierung, Isolierung und anderen Funktionen bis hin zu ultrafeinen Linienbreiten von 0,12 µm. Die Einheit besteht aus drei Hauptkomponenten: einer Photolackspinnmaschine, einer Belichtungseinheit und einer Heizplatte zur Entwicklung von Photolackfilmen. Mit der Photoresist-Spin-Coating-Maschine wird eine dünne Photolackschicht gleichmäßig auf ein Substrat aufgetragen. Diese dünne Schicht wirkt als Maske für das anschließende Ätzen. Der Spin Coater kann in Abhängigkeit von der gewünschten Schichtdicke und Gleichmäßigkeit der Beschichtung mit unterschiedlichen Geschwindigkeiten und Richtungen drehbar programmiert werden. Die photolithographische Belichtungseinheit verwendet UV-Licht, um den Photolack in den Bereichen des Substrats zu härten, in denen das UV-Licht berührt. Dies ermöglicht eine präzise Musterbildung, da das UV-Licht in der gewünschten Form gerichtet werden kann. Die Belichtungseinheit ist in der Regel entweder ein einzelner Photomasker oder ein Photoaligner, der beide Musterflächen der Maske belichten kann. Der Masker verwendet ein einziges Retikel, während der Aligner zwei Retikel für die Belichtung auf Waferebene verwendet. Die Heizplatte ist der Endbestandteil der Maschine und dient zum Backen und anschließenden Entwickeln des Fotolacks. Dabei wird der Photolack erhitzt und einer Entwicklerlösung ausgesetzt, die Photolack in den belichteten Bereichen zu einem Muster entfernt. Die Platten erwärmen sich typischerweise auf Temperaturen bis zu 200 ° C, was zum Antrieb der chemischen Reaktion erforderlich ist. Insgesamt ist TEL Lithius ein effizientes Werkzeug für komplexe Fotolackmuster. Das Asset bietet eine hochauflösende Strukturierung zusammen mit einfacher Programmierung, um Benutzerflexibilität zu ermöglichen. Durch die Kombination der drei Komponenten Beschichtung, Belichtung und Wärmebacken/Entwicklung erreicht das Modell eine Musterbildung mit hoher Auflösung und ausgezeichneter Gleichmäßigkeit. Dadurch können hochwertige Halbleiter- und Mikroelektronik-Bauelemente mit feinem Detail erstellt werden.