Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithius #9397192 zu verkaufen
URL erfolgreich kopiert!
Tippen Sie auf Zoom
ID: 9397192
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2005
System, 12"
Material / Chemical:
Operating system: LINUX / Windows
SMIF
Hard Disk Drive (HDD) missing
Process: HT-PYRO (1250C)
Safety: TEL Standard
Layout type: U/Box
Tool direction: LL
Front furnace body: Coating (FDP Standard)
Heater [Range of temperature]: High VMU-40-007EXT(41) [850-1250°C]
Process:
Pressure: ATM
Temperature: 1250°C
Wafer / Cassette transport:
SEMI Standard - Notch, 12"
T/S Wafer jump out detection
Fork type / Material: 1+4 / Al203
Wafer In / Out order: ED -> P -> M / M -> P -> ED
Cassette:
Miraial (MK-823S-H)
Slot: 26
Stocker: 21
Monitor cassette:
In P1, P2, M / Out P1, P2, M
Fork :
Wafer detection
Wafer displacement detection
Pitch conversion
Hardware composition:
Load module:
(4) TEL / SEMES Standard load ports
(1) TEL / SEMES Standard loader arms
Transfer module (platform):
(5) TEL / SEMES Standard transfer robot arms
Process module:
TEL / SEMES Chamber process module specification
(17) Pumps
RF Generator
Gas box
PC
Utility:
Distribution panel
THC
Chiller
(2) Chemical boxes
ETC
Parts and tool
Module:
(4) PM1 Soft bakes
(5) PM2 PEB
(5) PM3 Hard bakes
(3) PM4 ADH
(5) PM5 COT
(5) PM6 DEV
(1) PM7 WEE
(1) PM8
(1) PM9
Litho tool:
Lens
Laser
Light source
Alignment
Power
2005 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Lithius ist eine führende Photoresist-Ausrüstung, die bei der Herstellung und Herstellung von Halbleiter- und anderen elektroniknahen Bauelementen verwendet wird. Photoresist ist ein lichtempfindliches Polymer, das in einer Vielzahl von Mikrofabrikations- und Photolithographieverfahren verwendet wird. TEL Lithius-System besteht aus vier Hauptkomponenten: Flüssigkristall-Display (LCD) -Imagesetter, ein Aligner, Stepper-Werkzeug und Track-Einheit. Der LCD-Imagesetter verwendet erweiterte Optik, um eine hochpräzise Bildmaske zu erzeugen. Die erzeugten Bilddaten, das sogenannte Layout, werden in die LCD-Anzeige programmiert. Das Layout wird dann auf den photoresistbeschichteten Wafer projiziert und der lithographische Prozess beginnt. Um eine punktgenaue Genauigkeit zu gewährleisten, wurde der LCD-Imagesetter auf 8x Vergrößerung getestet und hat eine Ausrichtungsgenauigkeit von besser als 1 Mikron, was bei der Herstellung präziser Komponenten wichtig ist. Mit dem Aligner wird der photoresistbeschichtete Wafer exakt auf das Schrittwerkzeug positioniert. Dies geschieht mit einer Vision-Maschine und einem Wafer-Handler, die beide in der Lage sind, den Wafer in einer Abfolge von vorgegebenen Schritten schnell und genau zu bewegen. Der Aligner verwendet auch ein lokales Elektrodenzerstäuber (LEA) -Werkzeug, um die Störung von Mustern zu minimieren, während photoresistbeschichtete Wafer ausgerichtet werden. Das Schrittwerkzeug ist das Herzstück des Vermögenswertes. Es besteht aus einem fortschrittlichen Schrittkopf mit motorisierter Basis, Präzisionsstufe und einem hochauflösenden Mikroskop. Der Schrittkopf ist für die Steuerung der Beleuchtung und den Antrieb des Stepperwerkzeugs verantwortlich, während der Sockel eine sichere und präzise Bewegung des Wafers ermöglicht. Das Mikroskop ermöglicht die Positionierung und Ausrichtung des photoresistbeschichteten Wafers und ist in der Lage, Abbildungsmerkmale so klein wie ein Zehntel eines Mikrons Größe. Die letzte Komponente des TOKYO ELECTRON Lithius Modells ist die Gleisausrüstung. Dies ist verantwortlich für die Verteilung der während des photolithographischen Prozesses verwendeten Chemikalien. Das Gleis ist ein Bahnsteigsystem, das Chemikalien wie Andeveloper und Photoresist in einer präzisen, geordneten Reihenfolge an entsprechende Arbeitsplätze verteilt. Dies trägt dazu bei, die Gleichmäßigkeit und Genauigkeit des Produktionsprozesses zu gewährleisten. Zusammenfassend ist Lithius unit eine hochmoderne Photolackmaschine, die bei der Herstellung von Halbleiter- und anderen elektronikbezogenen Bauelementen eingesetzt wird. Der LCD-Imagesetter sorgt für präzise Bildpositionierung und Ausrichtung, während der Aligner die genaue Positionierung des photoresistbeschichteten Wafers ermöglicht. Das Schrittwerkzeug sorgt für präzise Bildgebung und Kontrolle und das Spurwerkzeug verteilt Chemikalien geordnet und einheitlich. Gemeinsam sorgen diese Bauelemente dafür, dass photoresistbeschichtete Bauelemente korrekt und effizient hergestellt werden.
Es liegen noch keine Bewertungen vor