Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Lithus #9290887 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Lithus ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine hochauflösende Lithographie bei der Herstellung nanoskaliger Strukturen ermöglicht. Dieses System ist in der Lage, bis zu 10 nm Auflösung, so dass es ideal für große integrierte Schaltungen (LSI) Produktion sowie Nanoskala Forschung und Entwicklung Anwendungen. Die Einheit besteht aus einer Maschine, die mit einer optischen Linse Licht durch einen Film aus Photolack projiziert, der das Substrat beschichtet. Das Werkzeug wird kalibriert, um das Licht in einem bestimmten Winkel zu richten, wodurch ein Muster aus beleuchtetem Fotolack entsteht. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das bei Belichtung unterschiedlich reagiert. Durch Variation der Zusammensetzung und Belichtung von Photolack kann die Chemie des Musters, das auf dem Substrat hergestellt wird, gesteuert werden. Das Asset kann mit einer Reihe fortgeschrittener Funktionen weiter angepasst werden, einschließlich der Möglichkeit, die Lichtintensität, die Neigung der Linse oder sogar Muster aus einer externen Quelle zu steuern. Diese Funktionen ermöglichen es dem Benutzer, genauere Muster entsprechend ihren Bedürfnissen zu erstellen. Das Modell ist ferner mit einer motorisierten Substrateinstellstufe ausgestattet, mit der das Substrat auch für eine optimale Auflösung optimiert werden kann. TEL Lithus-Geräte bieten auch ein automatisiertes Substrat-Positioniersystem, das die Genauigkeit der Substratplatzierung während des Belichtungsprozesses überwacht. Auf diese Weise können Anwender eine präzise Ausrichtung auf Nanometertoleranzen erreichen. Das Gerät ist ferner auf eine hohe Durchsatzrate mit automatischen Verarbeitungsfunktionen ausgelegt, die es dem Benutzer ermöglicht, große Anzahl von Substraten zu stapeln. Darüber hinaus kann die Maschine verwendet werden, um die Qualität der von ihr erzeugten Muster zu überwachen und gleichzeitig eine benutzerfreundliche Oberfläche für eine einfache Bedienung bereitzustellen. Der Anwender kann die Prozessparameter schnell einstellen und das Werkzeug ist in der Lage, die Einstellungen während des Betriebs in Abhängigkeit von den gewünschten Ergebnissen automatisch anzupassen. Darüber hinaus können auch fortgeschrittene Analysen wie FRAP (Fluoreszenzgewinnung nach Photobleaching) und AALEN (Elektronenenergieverlustspektroskopie) nach dem Belichtungsprozess mit dem Asset durchgeführt werden. Insgesamt ist das Modell TOKYO ELECTRON Lithus eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, mit der hochauflösende Muster für nanoskalige Anwendungen erstellt werden können. Die Kombination aus fortschrittlichen Funktionen und Automatisierungsfunktionen macht dieses System sehr effizient, um hochpräzise Photomasken zu erstellen und hochwertige Nanostrukturen mit überlegener Genauigkeit herzustellen.