Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #143980 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 Photoresist Equipment ist ein System zur Erzeugung von Bildern auf Halbleiterscheiben. Diese Einheit verwendet zwei verschiedene Arten von Photoresists, positiven Ton und negativen Ton, um einen Wafer mit lichtempfindlichen Materialien zu beschichten, die auf verschiedene Wellenlängen des Lichts reagieren, je nachdem, welcher Typ verwendet wird. Die Maschine kombiniert zwei verschiedene Technologien, um ein Bild auf dem Wafer zu erstellen: Fotomasken und Direktschreiben. Fotomasken sind Muster, die auf ein Filmblatt gedruckt werden. Der Film sitzt dann zwischen der Lichtquelle und dem Wafer, und je nachdem, welche Art von Photolack verwendet wird, wird das Licht blockiert oder durch die Maske hindurchgelassen, um den Photolack auf dem Wafer zu beeinflussen. Direct Write ist ein computergesteuertes Werkzeug, das einen feinen, fokussierten Lichtstrahl verwendet, um Muster direkt auf den Wafer zu zeichnen. TEL MARK7 Photoresist Asset besteht aus mehreren Komponenten, darunter ein Mass Flow Module (MFM), Loadlock and Orientation Model, Spinner, Robot Type Auto Changeover Equipment (RTCS), Mask Aligner und Direct Writing System. Das MFM misst mehrere Parameter im Zusammenhang mit dem Becher von Photolack, wie Temperatur, Gasdurchfluss und Druck, und passt sie nach Bedarf an. Die Lade- und Orientierungseinheit platziert die Wafer in den angegebenen Positionen im Spinner. Der Spinner spinnt den Wafer mit hoher Geschwindigkeit, um eine gleichmäßige Beschichtung von Photolack auf der Oberfläche bereitzustellen. Die Roboter Typ Auto Changeover Machine ersetzt automatisch gebrauchte Becher von Photoresist durch frische. Die Maske Aligner erhält die Filmmasken und fokussiert sie auf den Wafer. Schließlich verwendet das Direktschreibwerkzeug einen Laser, um Muster auf den Wafer gemäß vorgegebenen Parametern zu zeichnen. Anschließend wird unerwünschter Photolack mit einem Reinigungsverfahren entfernt, bei dem es sich üblicherweise um ein Gemisch von Säuren handelt. Der gesamte Prozess dauert nur wenige Sekunden und ist in der Lage, Submikron-Features zu produzieren. TOKYO ELECTRON MARK-7 Photoresist Asset ist eines von vielen Systemen, mit denen Bilder auf Halbleiterscheiben zur Herstellung integrierter Schaltungen erzeugt werden. Es ist sehr präzise, zuverlässig und effizient und hat die Halbleiterindustrie revolutioniert.