Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9006831 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 Photolackausrüstung ist ein Präzisionswerkzeug, das in mikroelektronischen Bauelementen und Halbleiterbauelementen verwendet wird. Es wird für die schnelle und genaue Übertragung von Photomaskenmustern in Halbleiter und Wafer verwendet. Die Übertragung erfolgt über ein Abbildungssystem, das mit Licht ein Muster auf den Wafern bildet. Das Gerät verwendet hochauflösende Optik und fortschrittliche Lichtquellen für die genaue Bildgebung. Die Maschine ist in der Lage, Merkmale kleiner als 0,2 μ m aufzulösen, was etwa 1/20 des Durchmessers eines menschlichen Haares ist. Dies ist sehr wichtig für hochpräzise Bauelemente wie Halbleiterspeicher und GPUs. Das Tool verwendet auch fortschrittliche Hardware und Software, um sicherzustellen, dass die verwendeten Photomasken genau auf die Wafer ausgerichtet sind, so dass kein Licht aus irgendeinem Bereich entweicht. TEL MARK7 photoresist Asset ist in der Lage, schnelle Belichtung von großflächigen Photomasken. Dadurch werden Produktionszeit und -kosten sowohl für großflächige als auch für kleinflächige Produktionsprozesse deutlich reduziert. Das Modell ist zudem mit einer automatischen Ausricht- und Fokussteuerung ausgestattet, die sicherstellt, dass alle Mustermerkmale präzise bearbeitet werden und die Wafer sauber und fehlerfrei sind. Darüber hinaus bietet TOKYO ELECTRON MARK-7 Photoresist System eine ausgezeichnete Wiederholbarkeit, was bedeutet, dass dieselben Wafer mehrfach mit den gleichen Ergebnissen verarbeitet werden können. Dies ist sehr wichtig für die Serienreife. Schließlich bietet das Gerät auch Kompatibilität mit Standard-Nassverarbeitungsmaterialien, einschließlich einer Vielzahl von Photoresists, Photoresist-Lösungsmitteln, Entwicklern, Strippern, Reinigern und Ätzlösungen. Zusammenfassend ist TEL/TOKYO ELECTRON MARK7 Photoresist Machine ein Präzisionsinstrument, das für die genaue Übertragung von Photomaskenmustern in die in der Mikroelektronik und Halbleitern verwendeten Wafer ausgelegt ist. Es verfügt über hochauflösende Optik, fortschrittliche Lichtquellen und automatische Ausrichtungs- und Fokussteuerungssysteme für eine genaue Musterbearbeitung. Es bietet auch eine schnelle Belichtung von großflächigen Photomasken und eine ausgezeichnete Wiederholbarkeit und ist mit Standard-Nassverarbeitungsmaterialien kompatibel.