Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9098200 zu verkaufen
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ID: 9098200
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1995
(1) Coater / (2) Developer System, 6"
(1) Scr
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die als wesentliches Gerät in der Halbleiterindustrie dient. Dieses System ermöglicht photolithographische Prozesse, die die Erstellung von Strukturen im mikroskopischen Maßstab ermöglichen. TEL MARK7 ist eine integrierte Photoresist-Einheit, d.h. sie verfügt über mehrere Komponenten, die alle miteinander zu einer Entität integriert sind. Einige dieser Komponenten umfassen einen Photolackspin, einen Wafertransport und eine Prozesskammer. Der Photoresist Spin bringt Lösungsmittel, Photoresist oder Chemikalien auf die Halbleiterscheibenoberfläche auf, um den photolithographischen Prozess zu ermöglichen. Der Wafer wird dann durch den Wafertransport in die Prozesskammer transportiert und dort ultravioletter Strahlung ausgesetzt. Durch diesen Prozess wird das photolithographische Muster gebildet. TOKYO ELECTRON MARK-7 integriert Spül- und Schleudertrockenmodule zur einfachen Reinigung der Halbleiterscheibe nach dem photolithographischen Prozess. Diese besteht aus zwei Schritten: spülen und schleudern-trocken. Das Spülmodul entfernt alle Chemikalien und Materialien aus dem Wafer, während das schleudertrockene Modul überschüssige Rückstände oder Flüssigkeiten entfernt. Darüber hinaus verfügt TEL Mark 7 über eine Vielzahl von eingebauten Funktionen, die sicherstellen, dass es in der Lage ist, eine Vielzahl von verschiedenen photolithographischen Prozessen durchzuführen. Dazu gehört die Möglichkeit, verschiedene Bereiche des Wafers mit chemischen Materialien zu ätzen, die Prozessparameter zu steuern, Muster zu automatisieren und eine präzise Waferpositionierung zu ermöglichen, während der photolithographische Prozess stattfindet. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Mark 7 eine effektive und zuverlässige Photolackmaschine zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Die integrierten Photoresist-Komponenten bieten maximale Effizienz durch die Erleichterung eines kompletten photolithographischen Prozesses in einer Einheit, einschließlich Spül- und Schleudertrockenmodule. Darüber hinaus bietet dieses Tool eine Vielzahl von eingebauten Funktionen, die den photolithographischen Prozess verbessern und letztlich eine bessere Produktqualität ermöglichen.
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