Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9098203 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7
ID: 9098203
Wafergröße: 8"
(1) Coater / (2) Developers system, 8".
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 Photoresist Equipment ist eine hochmoderne Mustertechnologie, die in einer Vielzahl von Herstellungsverfahren von Halbleiterbauelementen eingesetzt wird. Das System kombiniert fortschrittliche Photolithographie und Ätztechnologie mit wegweisender Photoresist-Chemie, um einen hochpräzisen und präzisen Trockenätzprozess von weniger als hundert Nanometern zu erzielen. TEL MARK7 verfügt über ein einzigartiges Fotoresist-Filmdesign, das eine überlegene Beständigkeit gegen hochaggressive Trockenätzchemie aufweist und dennoch eine hohe Auflösung von bis zu 0,1 m auf empfindlichen Substraten bietet. Das Photolackmaterial kann je nach Anwendungsanforderung auf unterschiedliche Trockenätzprozesse, wie reaktives Ionenätzen (RIE), Ionenmühlenätzen und Plasmaätzen abgestimmt werden. Darüber hinaus kann die Maschine für eine Vielzahl von Photoresist-Beschichtungen konfiguriert werden, einschließlich positiver und negativer Ton-Photoresists, sowie chemisch verstärkte Photoresists, die noch höhere Auflösungen ermöglichen. TOKYO ELECTRON MARK-7 Litho-Etch-Tool wurde entwickelt, um überlegene Genauigkeit und Wiederholbarkeit von Strukturen zu bieten, die auf weniger als hundert Nanometer geätzt werden. Das Asset verfügt über eine proprietäre Laser-Scan-Technologie, die eine präzise Ausrichtung des Wafers ermöglicht, wodurch übermäßig teure Maskenfehlstellungen durch Ätzen und Nachbearbeitung vermieden werden. TOKYO ELECTRON Mark 7 verfügt außerdem über eine verbesserte Präzisionsprofilgenauigkeit und eine schnelle Entfernung trockener Ätzbyprodukte nach dem Ätzen, was zu schnelleren Umdrehungszeiten und verbesserten Ausbeuten führt. Darüber hinaus wurde das Modell so konzipiert und getestet, dass es alle geltenden Umweltanforderungen erfüllt, wie die EU-RoHS-Richtlinie und REACH-Verordnung. Schließlich bietet TEL/TOKYO TEL MARK-7 ein umfassendes Softwarepaket zur Unterstützung des Photoresist-Musterprozesses. Fortschrittliche Software-Tools, wie automatisiertes Resist-Trimmen und optische Näherungskorrektur (OPC) -Werkzeuge, erleichtern eine hochgenaue Musterung und präzises OPC für enge Designlayoutanforderungen. Eine integrierte maskenlose Technologie verbessert die Prozessfähigkeit des TEL/TOKYO ELECTRON MARK7 Systems weiter und ermöglicht eine schnelle und kostengünstige Geräteintegration.
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