Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9098207 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 Photoresist Equipment ist ein programmiertes Gerät, das hauptsächlich im Halbleiterherstellungsprozess verwendet wird und es Anwendern ermöglicht, Photoresistmaterial auf Wafern in präzisen Formen und Größen genau zu entwickeln. Dieses System eignet sich ideal für die Herstellung anspruchsvoller integrierter Schaltungen mit extrem feinen Details. 7 TELEFON-ZEICHEN werden durch optimierte Daten gesteuert, die Einheit mit einem CCD-Hochleistungsbildgefangennehmengerät bearbeiten, das Daten von einer Logikschicht einer Oblate in bloßen Sekunden liest. Sie sendet die Daten dann an eine zentrale Steuereinheit, die Anweisungen an die Robotersteuerungen bearbeitet und sendet. Dies ermöglicht eine schnelle und präzise Bearbeitung von Material. Die von der CCD-Kamera erfassten Daten werden zusammen mit den benutzerdefinierten Parametern zur Erzeugung des Photoresist-Entwicklungsmusters verwendet. Die Robotersteuerung strukturiert dann die Wafer entsprechend der erzeugten Anleitung. Das Ergebnis ist eine hochgenaue Photolackbeschichtung, die den genauen Vorgaben des Benutzers entspricht. TOKYO ELECTRON MARK-7 bietet auch fortschrittliche Funktionen wie eine gepulste Laserintensitätsregelung, eine fortschrittliche Kühlsteuerung und einen In-situ-Monitor, der die Beschichtungsqualität des Photolacks ständig beobachtet und bewertet. Diese Eigenschaften gewährleisten höchste Genauigkeit und Präzision in einer Vielzahl von Photomasken-Verarbeitungsvorgängen. TEL MARK-7 ist in der Lage, bis zu 180 Wafer pro Stunde zu verarbeiten, und ist äußerst benutzerfreundlich, so dass der Bediener die Maschineneinstellungen schnell und einfach konfigurieren kann. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine Doppellastverriegelungsmaschine, die Wafer ohne Fehlergefahr sicher von den Lastanschlüssen zur Behandlungskammer führen kann. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON MARK7 Photoresist-Tool ein enorm leistungsfähiges Gerät mit einer Vielzahl von Funktionen, die es ideal für die Herstellung von anspruchsvollen integrierten Schaltungen mit extrem feinen Details macht. Die automatisierte Datenerfassung, -verarbeitung und -entwicklung sowie die hohen Verarbeitungsgeschwindigkeiten machen es zur perfekten Wahl für die Batch-Verarbeitung von Wafern mit Photoresist-Material.