Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9214147 zu verkaufen

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ID: 9214147
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Coater / (2) Developers system, 8" AD (4) HP (3) CP 1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die im Photolithographie-Schritt der Halbleiterbauelementherstellung verwendet wird. Das System besteht aus einer Photolackspinneinheit, einer Multispot-Belichtungsstation und einer automatischen Wärmeschutzeinheit. Die Photoresist-Spinneinheit dient dazu, photoresistbeschichtete Wafer mit genau gesteuerten Geschwindigkeiten zu spinnen, um gleichmäßige Spinraten über die Wafer zu erzielen. Die Multispot-Belichtungsstation verwendet Multispot-Laserstrahlen, um die mit Photoresist beschichteten Wafer gleichzeitig zu belichten, ohne dass herkömmliche Maskenausrichtungstechniken erforderlich sind, was einen erhöhten Durchsatz ermöglicht. Zusätzlich ist die Belichtungsstation mit einer Ausrichteinheit ausgestattet, die sowohl Laser als auch Kameras nutzt, um das Muster der Belichtungsbilder auf den Wafern genau zu fokussieren und auszurichten. Schließlich ist die Auto-Wärmeschutzeinheit eine integrierte Wärmesteuerungsmaschine, die verwendet wird, um eine Überhitzung der Wafer während der Resistspinn- und Belichtungsprozesse zu verhindern. Im Betrieb beginnt TEL MARK7 mit der Photolackspinneinheit. Nach dem Aufspinnen des Fotolacks auf die Wafer beleuchtet die Multispot-Belichtungsstation die Wafer, um die gewünschten Merkmale in den Resist zu ätzen. Das Ausrichtwerkzeug der Belichtungsstation wird kalibriert, um die Belichtungsmasken schnell und präzise auf jeden einzelnen Wafer auszurichten, was schnelle Verarbeitungsraten ermöglicht. Schließlich überwacht die Auto-Wärmeschutzeinheit die Temperatur der Wafer, um den maximalen Wärmeschutz des Photolacks während des gesamten Prozesses zu gewährleisten. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON MARK-7 eine leistungsfähige und zuverlässige Photolithographie, die es Halbleiterherstellern ermöglicht, Wafer schnell und präzise zu bearbeiten und gleichzeitig den höchsten Wärmeschutz für den Photolack während des Herstellungsprozesses zu gewährleisten. Mit seinen fortschrittlichen laserbasierten Belichtungsmechanismen und dem Präzisionsausrichtungsmodell ist MARK7 eine ideale Lösung, um die hohen Anforderungen an den Durchsatz und die Genauigkeit moderner Halbleiterbauelemente zu erfüllen.
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