Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9216078 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7
ID: 9216078
Coater / Developer system.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die in der Lithographie bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet wird. Das System integriert ein hochmodernes Auflösungs-Photoresist-Tool und eine fortschrittliche Bildgebungsoptik, um hervorragende Wafer-Bildgebungsleistung und -Auflösung zu liefern. TEL MARK7 Gerät ist ideal für die Verarbeitung von Submikron-Level-Lithographieanwendungen. Die Photoresist-Maschine enthält einen speziellen Photoresist-Prozessor, mit dem ein gleichmäßiger und genauer Photoresist-Film auf die Waferoberfläche aufgebracht wird. Es enthält auch ein Präzisions-Abbildungsoptik-Werkzeug, mit dem der Fotolack in Nanometerauflösung auf die Waferoberfläche abgebildet wird. Die Abbildungsoptik umfasst ein hochauflösendes Objektiv, das eine überlegene beugungsbegrenzte Bildqualität auf der Waferoberfläche liefert. Es enthält auch eine Roboter-Portalanlage, die verwendet wird, um die Optik genau zu positionieren und ein automatisches Scannen der Waferoberfläche zu ermöglichen. Das Photolackmodell ist computergesteuert und ermöglicht es Benutzern, die Abbildungsparameter zu programmieren, um ein gewünschtes Wafermuster zu erhalten. Das Gerät ist kompatibel mit verschiedenen gängigen Lithographie-Belichtungstechniken, einschließlich optischer Stepper, Spin/Dip-Beschichtung und Hochwasserbelichtungen. Es ermöglicht es Benutzern auch, Wafer unterschiedlicher Größe, wie große oder kleine Substratformate, zu verarbeiten. TOKYO ELECTRON MARK-7 Photoresist System ist mit einer fortschrittlichen Gasstrahleinheit konfiguriert, die verwendet wird, um Photoresist Material auf den Wafer während der Verarbeitung zu übertragen. Diese Gasstrahlmaschine hilft, eine gleichmäßige Resistabdeckung auf der Waferoberfläche während der Verarbeitung aufrechtzuerhalten. Darüber hinaus umfasst das Werkzeug ein Antireflexionsbeschichtungsmodul, das die Reflexion von Licht von der Waferoberfläche während der Bildgebung reduziert. TEL/TOKYO ELECTRON MARK7 Photoresist Asset ist mit einem Temperiermodell ausgestattet, das es Anwendern ermöglicht, die Temperatur der Lithographie-Optik während der Bildgebung zu regulieren. Es enthält auch ein Reinigungsmodul, mit dem das Resistmaterial nach der Bildgebung von der Waferoberfläche gereinigt wird. Insgesamt ist MARK-7 eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die den Anforderungen der Anwender an die Lithographie-Bildgebung gerecht wird. Es bietet überlegene Auflösung Bildgebung und eine breite Palette von erweiterten Funktionen, damit Benutzer effizient qualitativ hochwertige Halbleiterbauelemente produzieren können.
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