Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9235179 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7
ID: 9235179
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
Track systems, 8" 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die eine schnelle und genaue Resistverarbeitung ermöglicht. Es ist ein vollautomatisches, geschlossenes Schleifensystem, das die Resistabgabe, Belichtung und Backen in einem einzigen Schritt steuert. TEL MARK7 bietet auch eine breite Palette von Belichtungs- und Bereinigungsparametern für verschiedene Resistverarbeitungsanwendungen. TOKYO ELECTRON MARK-7 ist mit den kalibrierten Dispensern (CD) ausgestattet, die speziell für Photoresist-Anwendungen entwickelt wurden. Es verfügt über eine einstellbare Ausgabedüse, um eine gleichmäßige und wiederholbare Dosis von Photoresist zu gewährleisten. Der Abgabekopf ist auch in der Lage, Temperatur und Druck zu steuern. TEL/TOKYO ELECTRON MARK-7 bietet eine UV-Belichtungseinheit und eine schattenfreie Belichtungseinheit. Es enthält eine fortschrittliche Luftmessermaschine, um die Entwicklungsbereiche sauber zu halten, wodurch die Entwicklungszeit reduziert und die Genauigkeit erhöht wird. TOKYO ELECTRON MARK7 verfügt auch über integrierte Prozessalgorithmen, um genaue Belichtungszeiten für verschiedene Prozesse wie HF- oder UV-Belichtung bereitzustellen. TEL/TOKYO ELECTRON MARK7 verfügt auch über ein aktives Heat Control Tool (AHCS). Dieses Asset verwendet einen PID-Controller, um die Heizelemente genau zu steuern. Es bietet auch eine Auswahl an mehreren Temperaturprofilen, so dass Benutzer das beste Temperaturprofil für ihre spezifische Anwendung auswählen können. Darüber hinaus bietet TEL MARK-7 ein unabhängiges Überdruckmodell, das einen gleichmäßigen Druck auf den Photolack während des Belichtungsprozesses gewährleistet. TEL Mark 7 verfügt auch über ein automatisiertes Resistreinigungsmodul. Dieses Modul verwendet eine integrierte Düsenausrüstung, um den verbleibenden Resist auf dem Substrat zu reinigen. Der Reiniger entfernt den Photolack von der gesamten Substratoberfläche, ohne Spuren zu hinterlassen. MARK7 ist in der Lage, Substrate bis zu 4mm Dicke mit einer Substratgröße von bis zu 200mm x 300mm zu handhaben. Es kann maximal 12 Substrate gleichzeitig mit manueller Belastung bedienen. Die Effizienz und Genauigkeit von MARK-7 macht es zum idealen Photolackverarbeitungssystem für eine Vielzahl von Anwendungen.
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