Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9235181 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7
ID: 9235181
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
Track system, 8" 1997 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 Photoresist ist ein umfassendes, hochpräzises negatives Photoresist-Entwicklungssystem. Es ist ideal für den Einsatz in der großflächigen Bildverarbeitung und -analyse für Leiterplatten, ICs und andere elektronische Komponenten. Die Grundeinheit umfasst eine Fotomaske, eine Maschinensteuerung, einen automatischen Probenwechsler und ein integriertes Bildüberwachungswerkzeug. Der Asset Controller ist die wichtigste CPU zur Steuerung des TEL MARK7 Modells. Es ist in der Lage, bis zu drei Lichtquellen zu steuern, und bietet eine Reihe von verarbeiteten Datenverwaltungs- und Bildverarbeitungsfunktionen. Die Photomaske von TOKYO ELECTRON MARK-7 kann für Maskierung, lichtempfindliche Schichtbildung, Belichtung und Entwicklung verwendet werden. Es verfügt über eine Lichtquelle mit einer Leistung von bis zu 350mW/cm2 für Maskierung und Belichtung. Mit der Fotomaske werden unerwünschte Bereiche der Maske entfernt und die Photolackflächen der Lichtquelle ausgesetzt. Der automatisierte Probenwechsler von TOKYO ELECTRON Mark 7 kann bis zu 100 Proben gleichzeitig aufnehmen und zahlreiche Aufgaben wie Maskierung, lichtempfindliche Schichtbildung, Belichtung und Entwicklung problemlos ausführen. Der Wechsler verwendet einen hochpräzisen, temperaturgesteuerten Roboterarm, um die Proben zu manipulieren und Präzisionsaufgaben mit großer Genauigkeit durchzuführen. Die integrierte Bildüberwachungsausrüstung MARK-7 Systems ermöglicht es dem Anwender, Bilder zu analysieren und die Qualität der Probenbilder zu überwachen. Die Bildverarbeitungsfunktionen der Einheit ermöglichen es dem Benutzer, Helligkeit, Kontrast und andere Bildparameter anzupassen sowie Funktionen wie Farbungleichgewichtskorrektur, Aspekt- und Fensterfunktionen sowie Falschfarbanzeige zu integrieren. Die Anwendung der TEL/TOKYO ELECTRON MARK-7 Photoresist-Maschine reicht von der einfachen Entwicklung von Photoresist-Mustern bis hin zu komplexen Aufgaben wie 3D-Fotolithographie zur Herstellung von ICs und Lasern. Seine Präzision und Anwendungen machen Mark 7 zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die Entwicklung präziser und schneller Photolacksysteme.
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