Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9409177 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 7 Photoresist Equipment ist ein vollautomatisches, hochpräzises System zur Verarbeitung von Fotolackfilmen auf Halbleiterscheiben. Es verwendet eine fortschrittliche Steuereinheit und proprietäre Algorithmen, um eine hochgenaue Verarbeitung von Dünnschichtmaterialien zu ermöglichen. Die Maschine verfügt über einen Präzisionsfilmauftragsarm und eine laseroptische hochauflösende Abtasteinrichtung, die die Dicke abgeschiedener Filme erfassen und die Dickenverteilung analysieren kann. Es bietet auch eine Temperatursteuerungsfunktion, um konsistente Filmdicke und Temperatur zu gewährleisten. Das Photolackwerkzeug verarbeitet Filme in zwei Schritten auf den Wafer. Die erste ist die Filmbeschichtung, wobei ein Dünnfilmmaterial durch den Auftragsarm in einem einzigen Durchgang auf den Wafer aufgebracht wird, worauf ein Photolackverarbeitungsschritt folgt. Mit einer laseroptischen hochauflösenden Abtasteinrichtung wird die Dickenverteilung der Folie analysiert und die Abscheidung entsprechend eingestellt. Sie kann dann die Dicke der abgeschiedenen Filme erfassen und die Dickenverteilung analysieren, bevor sie das Photolackmaterial auf den Wafer überträgt. Zum Asset gehört auch eine Temperaturregelfunktion, die eine konsistente Verarbeitung des Dünnschichtmaterials ermöglicht. Diese Funktion kann genutzt werden, um eine gleichmäßige Foliendicke und Temperatur während der gesamten Verarbeitung zu gewährleisten. Temperaturregelung ist wichtig, um stabile, hochwertige Folien zu erzielen. Die Dünnfilmschicht wird mit einer photolithographischen Maske weiterverarbeitet, die über den Wafer gelegt wird. Zur Entwicklung des Photolackmaterials wird dann ein Hochleistungslaser verwendet. An dieses Verfahren schließt sich ein Beschichtungsschritt an, bei dem der Wafer einer Lösung ausgesetzt wird, die das Photolackmaterial selektiv unerwünschtes Material auf dem Wafer entfernen läßt. Das Modell kann auch Filme mit Ätzen verarbeiten, wobei das unerwünschte Material vom Wafer weggeätzt wird. Weiterhin können auch Feinteilungsanalysen mit der Inspektion von Minutenmerkmalen durchgeführt werden. TEL MARK7 Photoresist Equipment bietet eine zuverlässige und genaue Verarbeitung von Filmen auf Halbleiterscheiben. Es ist mit einem fortschrittlichen Kontrollsystem und proprietären Algorithmen ausgestattet, die eine konsistente, hochpräzise Verarbeitung von Dünnschichtmaterialien ermöglichen. Durch die Verwendung der Temperaturregelung gewährleistet es eine gleichmäßige Filmdicke und Temperatur für eine verbesserte Verarbeitungsstabilität. Darüber hinaus ermöglicht das Gerät eine komfortable Feinteilungsanalyse mit der Fähigkeit, winzige Merkmale auf dem Wafer zu überprüfen.