Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #293680676 zu verkaufen
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TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung, mit der komplizierte Muster auf Halbleiterscheiben mittels Photoätzen erzeugt werden. Dieses System arbeitet mit einer Genauigkeit von 75nm und Toleranzen von 10nm und ist somit ideal für verschiedene Anwendungen wie Leiterplatten und andere Komponenten in der Mikroelektronikindustrie. TEL MARK8 Einheit besteht aus einer Haupt-Photolackeinheit, einer Resistbelichtungseinheit und einer Substratpräparationseinheit. Die Hauptfotoresisteinheit ist das Herz der Maschine, die verwendet wird, um Resist auf das Substrat zu messen und aufzutragen. Die Resistbelichtungseinheit dient zur Steuerung von Intensität, Position und Zeitpunkt der Belichtung mit dem Resist während des Photoätzprozesses. Die Substrataufbereitungseinheit wird verwendet, um sicherzustellen, dass das Substrat vor dem Photoätzprozess ordnungsgemäß vorbereitet wird. TOKYO ELECTRON MARK-8 Tool ist für die Verwendung mit einer Vielzahl von Resists konzipiert, die auf eine Vielzahl von Anwendungen zugeschnitten werden können. Es ist in der Lage, sich durch die Verwendung seiner fortschrittlichen Resistkontrollsysteme, die einfach zu programmieren sind, an verschiedene Resisttypen anzupassen. Darüber hinaus ist es auch kompatibel mit einer Vielzahl von Beleuchtungsquellen, wie Laser, Quecksilber-Lichtbogenlampen und Leuchtstoffe. TEL/TOKYO ELECTRON MARK8 Asset wird auch mit einer erweiterten Software-Suite geliefert. Dazu gehören Software zur Überwachung des Fotoätzprozesses sowie Software zur Berechnung der optimalen Belichtungszeit. Darüber hinaus kann das Modell auch programmiert werden, um die Beleuchtungsbedingungen automatisch anzupassen und Pegeln in Reaktion auf Änderungen im Substrat- und Waferzustand zu widerstehen. MARK-8 Ausrüstung ist die ideale Wahl für die Herstellung einer breiten Palette von Komponenten, die in der Mikroelektronikindustrie eingesetzt werden. Seine fortschrittlichen Resistkontrollfunktionen, seine Kompatibilität mit einer Vielzahl von Resists und seine Fähigkeit, sich leicht an verschiedene Beleuchtungsquellen anzupassen, machen es zu einem sehr vielseitigen System. Darüber hinaus bietet die Software-Suite Anwendern die Möglichkeit, den Fotoätzprozess auf optimale Ergebnisse abzustimmen.
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