Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #293751439 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist eine „Photoresist“ -Ausrüstung für die mehrschichtige Waferproduktion. Das System basiert auf einer dreiachsigen Ausrichtstufe mit modernster Projektionsoptik und programmierter Strahlentdenodierungstechnologie. TEL MARK8 ist eine hochgradig konfigurierbare Einheit mit der Fähigkeit, bis zu 32 Systeme pro Bank unterzubringen. Mit mehrstufigen Kanalisierungssystemen bietet TOKYO ELECTRON MARK-8 flexibles Wafermanagement für hochkomplexe Anwendungen und Prozesse. TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 verwendet eine automatische Maskierungs- und Plattenkassettenmaschine für voll gemusterte Resist-, PR-Masken- und Ätzresist-Anwendungen. Die Hochspannungsversorgung des Werkzeugs, der integrierte Schrittmotor und die Filtersteuerung erleichtern auch Anwendungen auf höchstem Niveau und Prozessstabilität. TEL/TOKYO ELECTRON MARK8 wurde entwickelt, um der Herausforderung des Rapid Prototyping und der schnellen Produktion in Lithographieanwendungen der nächsten Generation gerecht zu werden. Das Asset nutzt modernste Optik, Prozesssteuerung und Programmiertechniken, um überlegene Projektions-, Auflösungs- und Musterreproduzierbarkeit zu erreichen. MARK-8 ist sehr effizient im Design des Lichtmanagements, mit separaten Belichtungskammern und Laserdioden, so dass Benutzer die Belichtungszeiten reduzieren und überlegene Bildqualität liefern können. Zusätzlich verwendet das Modell einen dedizierten Strahl-Denoisierungsfilter, mit dem Benutzer eine engere Mustertreue bei minimaler Verzerrung erzielen können. TEL Mark 8 ist auch mit einer Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, wie einer automatischen Spalterkennung, einem automatisierten Vergleichssystem und einem Sicherheitsmonitor. Der Sicherheitsmonitor stellt sicher, dass das Gerät an einem gewünschten Betriebsfenster läuft und schließt ab, wenn Fehlerzustände oder übermäßige Partikelemissionen festgestellt werden. Mark 8 bietet eine konfigurierbare Plattform für bis zu 8 Aufgaben pro Maschine und bis zu 4 Aufgaben in einer einzigen Patrone. Mit diesen Funktionen bietet das Tool eine einzigartige Prozesseffizienz und Wiederholbarkeit und bietet eine ideale Plattform, um den Anforderungen der Lithographie der nächsten Generation gerecht zu werden.