Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9098384 zu verkaufen
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ID: 9098384
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
(2) Coaters / (2) Developers System, 8"
6CP/1AD/7HP/1WEE
2-1 RRC x4
2-2 Iwaki x4
THC
FFU: PCW
C/B
Komatsu
LtR
9801F
Local
1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung für den Einsatz in der Halbleiterverarbeitung. Es ist in der Lage zu ätzen und Abscheidung, sowie positive und negative Resistmuster Prozesse. Photoresists sind bei der Herstellung integrierter Schaltungen (IC) unerlässlich, da sie die Herstellung von Gerätearchitekturen mit genau definierten Formen auf Siliziumscheiben ermöglichen. TEL MARK8 verfügt über ein hochmodernes Bildgebungs- und Mustersystem. In der Produktion wird neben einem Spin-Coater ein Hochleistungsverdampfer eingesetzt. Der Verdampfungsprozess ermöglicht eine präzise Temperatur- und Dampfabscheidungsregelung, während der Spin-Coater eine gleichmäßige und konsistente Resistbeschichtung bietet. Das Gerät ist auch mit einer fortschrittlichen Stufenmaschine für automatisierten Wafertransport und -handling sowie einer einstellbaren bipolaren Stromversorgung zur Regelung der Intensität des aktiven Ätzmittels ausgestattet. Diese Präzision ermöglicht es, Materialien in den tiefsten Brunnen zu ätzen und abzulegen. Das Werkzeug hat auch eine gehobene Auflösung von 1 Mikron aufgrund seiner Schneidkantenoptik. Diese Funktion gewährleistet präzise Geometrien und Formen auf den Wafern. Zusätzlich enthält TOKYO ELECTRON MARK-8 eine überlegene Sputterratenkontrolle, die Hochleistungsfilme mit feinen Partikeln und während der Verarbeitung erzeugt. Dadurch entstehen effektiv hochdichte Muster mit einer kompromisslosen Schicht-Schicht-Haftung. TOKYO ELECTRON MARK8 ist speziell für fortgeschrittene und hochbelastete Anwendungen konzipiert. Es kann Muster bis zu 50 nm mit Genauigkeitsniveaus von 0,5 μ m herstellen. Dank der automatisierten Wafer-Handhabung und der präzise einstellbaren bipolaren Stromversorgung eignet es sich sehr gut für die Serienproduktion von hochpräzisen Halbleitern. Darüber hinaus ermöglicht es seine überlegene Sputtergeschwindigkeitskontrolle, tiefe Ätzfolien und -formen auf den empfindlichsten Substraten effektiv zu erzeugen. Mit seiner hervorragenden Kombination aus Präzision, Genauigkeit und Durchsatz ist Mark 8 ein Photoresist-Modell am oberen Ende, das für die anspruchsvollsten Anforderungen an die Halbleiterherstellung entwickelt wurde.
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