Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9098648 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8
ID: 9098648
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
(1) Coater / (2) Developers System, 8", 1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die sich auf kritische Lithographieanwendungen konzentriert. Photoresists sind chemische Lösungen, die selektiv Licht ausgesetzt werden und temporäre Oberflächenänderungen verursachen. Photoresists werden seit langem in einer Vielzahl von kundenspezifischen industriellen Anwendungen verwendet, von der Mikrolithographie bis zur Folienverpackung. TEL MARK8 photoresist ist ein verbesserter Zweig der TEL-Marke TOKYO ELECTRON line. Sein Hersteller verwendet ein patentiertes Design, um eine gleichmäßige Filmabscheidung über die gesamte Substratoberfläche zu gewährleisten, so dass es eine sehr hohe Genauigkeit erreicht. Es wurde auch mit einer benutzerfreundlichen Oberfläche entworfen, die eine intuitive Nutzung durch Benutzer aller Erfahrungsstufen ermöglicht. Seine erweiterten Eigenschaften umfassen einen impulsprogrammierbaren Belichtungsbereich, der die präzise Formgebung eines erforderlichen Musters ermöglicht, das dann freigelegt wird. Es hat auch eine doppelte Gate-Öffnung, um die Größe der Öffnung zu steuern, die Begrenzung der Menge an Licht, das während der Belichtung absorbiert werden kann. TOKYO ELECTRON MARK-8 Unit ist dank seiner fortschrittlichen proprietären Algorithmen in der Lage, hervorragende Ergebnisse mit geringen Verzerrungen zu erzielen. Dies gelingt durch die Verwendung fein abgestimmter Belichtungswerte und eine präzise Kontrolle der Konzentration von Photoresists. Durch lineares lineares Modenscannen ist die Maschine in der Lage, Ergebnisse mit optimaler Auflösung und ohne Über- oder Unterbelichtung zu liefern. Der Fotolack selbst ist auch eine unglaubliche Leistung der Technik. Es wurde entwickelt, um Schäden durch UV-Strahlung zu widerstehen und wurde getestet, um stabil für die Verwendung mit allen Lösungsmitteln zu sein. Darüber hinaus verfügt es über einen verbesserten, breiten Spektrum-Empfindlichkeitsbereich, der einen breiten Leistungsbereich bietet, der sehr präzise und detailorientierte Prozesse ermöglicht. MARK-8 Fotoresist-Tool wurde für seine bemerkenswerte Leistung, aber auch für seine Zuverlässigkeit gelobt. Seine Steifigkeit und Stabilität macht es zu einer geeigneten Wahl für Lithographie und andere verwandte Verfahren im industriellen Bereich. Der effiziente Betrieb trägt auch dazu bei, die Kosten zu senken, da die Nutzer erwarten können, Energie und Ressourcen zu sparen. Mit seiner Benutzerfreundlichkeit, seiner hochpräzisen Leistung und seiner ausgezeichneten Schadensfestigkeit ist dieser Photoresist eine ideale Wahl für viele Unternehmen.
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