Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9109448 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist eine fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um eine hochgenaue Musterung mit präziser Steuerbarkeit über den Belichtungsprozess bereitzustellen. Dieses System ermöglicht die Beschichtung dünner Folienschichten auf einen Halbleiterwafer für Waferbearbeitungsanwendungen, einschließlich Lithographie und Ätzen. Das Gerät umfasst einen leistungsstarken Stepper, eine automatische Steuerung, eine optische Bildgebungsmaschine und eine motorisierte Bühne. Der Stepper, das Herzstück des Werkzeugs, ist mit einem Weitwinkel und einer schmalen Winkellinse ausgestattet, um die erforderlichen Beleuchtungswinkel für die Fotoresistverarbeitung bereitzustellen. Der Stepper weist außerdem eine motorisierte Waferstufe und einen Detektor auf, die eine genaue Ausrichtung des Wafers in Bezug auf das optische Gut ermöglichen und somit eine Genauigkeit innerhalb eines Bruchteils eines Mikrons ermöglichen. Der Stepper beinhaltet auch einen Ausrichtmechanismus, der die für eine optimale Abbildungsleistung notwendigen 3-Achsen-Anpassungen bereitstellt. Die automatische Steuerung, die mit dem Stepper verbunden ist, liefert alle notwendigen Steuerparameter wie Waferposition, Schrittgröße, Belichtungsdosis und Belichtungszeit. Mit diesen Parametern kann der Bediener das Belichtungsverfahren effektiv steuern, um sicherzustellen, dass die optimale Bildgröße erreicht wird. Das optische Abbildungsmodell von TEL MARK8 umfasst ein DMD (Direct Mask Data) -Bildgebungsgerät mit einem großen beleuchteten Sichtfeld, das eine schnelle und genaue Ausrichtung der Projektionsoptik ermöglicht. Dieses System kann an die verschiedenen Belichtungen angepasst werden, die für eine individuelle Lithographieanwendung benötigt werden. Schließlich ermöglicht die motorisierte Stufe das Bewegen der Einheit in die nächste Waferposition, ohne die Vorrichtung manuell zurücksetzen zu müssen. TOKYO ELECTRON MARK-8 Photoresist Machine bietet eine Kombination aus hoher Genauigkeit und präziser Steuerbarkeit und ist damit eine außergewöhnliche Wahl für Waferbearbeitungsanwendungen. Mit dieser Kombination ermöglicht es Herstellern, schnell und doch präzise Wafer mit hochauflösenden Bildern zu erstellen. Dies wiederum kann die Produktivität des Waferherstellungsprozesses deutlich verbessern.