Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9109451 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist Equipment ist für die fortschrittliche Photoresist-Verarbeitung in der Wafer-Herstellung konzipiert. Es bietet Präzisions-Photolithographie für Wafer-Herstellungsprozesse in der Halbleiterindustrie. TEL MARK8 Photoresist System verwendet einen hochauflösenden Maskenausrichter, um Fotoresistfilme auf der Waferoberfläche auszurichten und zu belichten. Es ist mit einem Hochgeschwindigkeits-Laser ausgestattet, um eine präzise Ausrichtung der Fotomaske auf den Wafer zu ermöglichen. Der Aligner verfügt zudem über eine automatisierte Sprühausrichtbarkeit mit einem einstellbaren Steigungsbereich, um den Anforderungen verschiedener Wafer-Designs gerecht zu werden. Das Fotolackmaterial wird in einem Behälter gehalten, der entsprechend der Größe des Wafers ausgebildet sein kann. Das Material wird in eine Wärmekammer gepumpt, die auf die gewünschte Temperatur erwärmt und dann in eine Spinnerstation überführt wird. Der Photolack wird mit kontrollierter Geschwindigkeit auf den Wafer gesponnen, um eine dünne Schicht aus Photolack zu bilden. Gleichzeitig wird der Fotolack mit ultraviolettem Licht vom Maskenausrichter und direktem Abbildungswerkzeug belichtet, um das erforderliche Ergebnis zu ermöglichen. Dieses Verfahren wird als Belichten des Photolacks bezeichnet. TOKYO ELECTRON MARK-8 Photoresist Unit hat eine Funktion namens „Multi-Layer Photoresist Spray“, die für hochpräzise Wafer Herstellungsprozesse konzipiert ist. Durch diese Funktion kann der Photolack in mehreren Schichten auf den Wafer gesprüht werden. Nach dem Aufsprühen und Belichten jeder Schicht wird das Material erhitzt oder abgekühlt, um die Photolackschicht zu fixieren. Der entwickelte Wafer wird dann auf eine Entwicklerstation übertragen, wo ein chemischer Entwickler, wie eine alkalische Lösung, aufgebracht wird, um den belichteten Photoresist vom Wafer abzustreifen. Das Endergebnis ist ein sauberer Wafer, der zur Weiterverarbeitung bereit ist. Für konsistente Ergebnisse ist die Maschine mit einem Temperatur- und Druckregelwerkzeug ausgestattet, um die verschiedenen Schritte im Photolackprozess besser steuern zu können. Das Asset wird auch mit verschiedenen Software-Tools geliefert, die es dem Benutzer ermöglichen, den Photoresist-Prozess von Anfang bis Ende zu überwachen und zu steuern. TEL MARK-8 Photoresist Model ist auch mit einer breiten Palette anderer Wafer-Fertigungsanlagen kompatibel und gewährleistet eine einfache Integration von Photolithographie-Prozessen in den größeren Wafer-Herstellungsprozess.