Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9115313 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist eine Photoresist-Anlage, die in der Halbleiterindustrie zur photolithographischen Verarbeitung von Wafern eingesetzt wird. Das System ist in der Lage, Substrate von 200mm- 450mm zu handhaben und eignet sich sowohl für maskenbasierte als auch für direkte Schreibprozesse. Das Gerät verfügt über eine ausgerüstete Reinigungsmaschine, mit der die Substrate vor der Verarbeitung gereinigt und gespült werden können. Es verfügt über eine eingebaute Substrat-Ein-/Ausgabeeinheit, die es sehr effizient und einfach zu bedienen macht. Es gibt verschiedene Arten von Fotolack mit dem Werkzeug verwendet, einschließlich positiv, negativ und positiv/negativ. TEL MARK8 verwendet einen Stepper, um das Substrat genau an die gewünschte Stelle zu bewegen, sowie eine Waferstufe, die in der Lage ist, in alle Richtungen zu drehen, zu heben und zu senken und zu zoomen. Es ist auch mit einer Acht-Zonen-Gaszufuhr ausgestattet, die eine höhere Kontrolle über Prozessparameter ermöglicht, was besonders bei der Verarbeitung von dünnen Filmen nützlich ist. Das Modell verfügt über eine eingebaute Strahlungsquelle, die aus einem Excimerlaser, einer Ionenquelle und einer Rasterelektronenstrahlquelle besteht. Es verfügt auch über ein Vakuumverarbeitungsmodul, das Prozesse wie Verdampfen, Sputtern und Sputterabscheidung ermöglicht. TOKYO ELECTRON MARK-8 eignet sich gut für Anwendungen wie hochdichte Verbindungsbildung, Mikron-Level-Musterbildung und Durchgangsloch-Lithographie. Darüber hinaus ist es in der Lage, fortschrittliche Filmsysteme wie Passivierungsschichten, Isolationsschichten und Photomasken zu schaffen. Es verfügt über eine funktionsreiche Plattform, die es Benutzern ermöglicht, alle Arten von Herstellungs- und Verarbeitungsanforderungen durchzuführen Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Mark 8 eine sehr zuverlässige und fortschrittliche Photoresist-Ausrüstung, die in der Lage ist, eine Vielzahl von Substraten und Fotoresists zu handhaben, sowie eine breite Palette von Funktionen und Fähigkeiten. Es ist ein sehr beliebtes System in der Halbleiterindustrie für seine Vielseitigkeit und Benutzerfreundlichkeit und ist in der Lage, eine Vielzahl von photolithographischen Prozessen genau und schnell durchzuführen.