Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9155211 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches Lithographiesystem zur Photoresist-Abscheidung und -Verarbeitung. Es verwendet eine fortschrittliche Maskenprojektionstechnologie, die die Projektion eines mikrostrukturierten Fotolackfilms auf ein Muster auf einem Siliziumwafer ermöglicht. Dies macht es ideal für Anwendungen wie MEMS, optische und mikrofluidische Geräte. Die Einheit besteht aus einer Substratstufe, einer Maskenprojektionsmaschine und einem Resistbeschichtungswerkzeug. Die Substratstufe wird verwendet, um das Substrat an Ort und Stelle zu halten und ist in der Lage, die Temperatur und Feuchtigkeit des Substrats zu steuern. Die Maskenprojektion ist der Hauptbestandteil des Modells und besteht aus einem Laserprojektor, einer Ausrichtungsoptik sowie einer optischen Reinigungs- und Wartungsausrüstung. Der Laserprojektor verwendet eine 327 nm Laserlinie und ist in der Lage, ein hochauflösendes Muster auf das Substrat zu projizieren. Die Ausrichtungsoptik dient zur Ausrichtung des Laserstrahls auf das Maskenfeld und die Optik liefert eine hohe Präzision für das Photolackmuster. Das optische Reinigungs- und Wartungssystem hilft, Kontaminationen während der Abscheidung zu entfernen. Die Resistbeschichtungseinheit dient zum Aufbringen des Photolackmaterials auf das Substrat. Die Maschine verwendet ein Hochdrucksprühwerkzeug, das eine dünne gleichmäßige Photolackschicht auf die Oberfläche des Substrats aufbringt. Das Sprühgerät ist mit mehreren Düsen und einem computergesteuerten Programm ausgestattet, um sicherzustellen, dass der Fotolack gleichmäßig und genau abgeschieden wird. TEL MARK8 Photoresist Model hat eine garantierte 15-jährige Lebensdauergenauigkeit von 0,1 μ m und liefert zuverlässige und genaue Ergebnisse. Es eignet sich für hochpräzise Photoresist-Abscheidungsanwendungen. Es wurde in der Industrie für Anwendungen wie 3D-Druck, MEMS, optische und mikrofluidische Geräte weit verbreitet.