Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9170457 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist eine Photoresist-Anlage, die zur photolithographischen Ätzung bei der Herstellung mikroelektronischer Bauelemente eingesetzt wird. Dieses System wird für eine Vielzahl von Anwendungen in verschiedenen Branchen wie Halbleiter-, Solar-, Automobil- und Telekommunikation eingesetzt. Diese fortschrittliche Photolackeinheit hat zwei Hauptkomponenten; die Imaging and Pattern Generation Machine (IPG) und das Coater/Developer Tool (CDS). Das IPG ist eine Bilderzeugungs- und Verarbeitungsanlage, die hochauflösende Luftbilder für mikroelektronische Komponenten erzeugen kann. Es enthält einen hochauflösenden Bildgenerator mit programmierbaren Zellen und Dither-Mustern, die die Größe und Form des Bildes anpassen können, um die Komponente genau darzustellen. Der Prozessor hat eine Auflösung von 10µm und eine Bildgröße von 100µm. Das CDS ist für das Aufbringen und Entfernen des Photolacks verantwortlich. Es ist mit einem chemischen Behälter und zwei Verdampfungskammern ausgestattet, die für die chemische Vorbeschichtung der Komponenten mit einer dünnen Photoresistschicht verantwortlich sind. Dieser Resist beschichtet das gesamte Bauteil und maskiert Bereiche, die nicht geätzt werden sollen. Bei der Entwicklung des Bauteils verwendet das CDS eine sogenannte „chemisch verstärkte“ Technik, die Genauigkeit und Geschwindigkeit erhöht, indem sie die physikalischen Eigenschaften des Photolacks direkt beeinflusst. Dieses Verfahren nutzt eine einzigartige Kombination aus Chemie, Wärme und Licht, die es dem Photolack ermöglicht, das Bauteil präzise abzudecken und ein Muster mit höchster Genauigkeit zu erstellen. Dieses fortschrittliche Photolackmodell bietet eine hohe Genauigkeit und zuverlässige Produktion von mikroelektronischen Komponenten. Es hat eine Auflösung von 10µm, eine Bildgröße von 100µm und ist in der Lage, komplexe Bilder zu erzeugen. Die IPG- und CDS-Systeme sind so konzipiert, dass sie zusammenarbeiten, um eine dünne Schicht Photolack genau aufzubringen und das Bauteil zu entwickeln. Dies ermöglicht eine schnellere und präzisere Herstellung mikroelektronischer Bauteile, was Kosten und Produktionszeit reduziert. Mit dieser Photoresist-Anlage lassen sich präzisere und zuverlässigere Teile effizient herstellen.