Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9180744 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist ein hochmodernes Photoresist-System zur präzisen Belichtung und Entwicklung von feinauflösenden Mustern für mikroelektronische Schaltungsstrukturen. Mit den neuesten computergesteuerten Systemen integriert, bietet TEL MARK8 den Betreibern eine leistungsstarke Palette von Fähigkeiten, um während des photolithographischen Prozesses hervorragende Ergebnisse zu erzielen. Diese Maschine verwendet photolithographische Techniken, um verschiedene Schaltungsstrukturen mit gewünschten Mustern herzustellen. TOKYO ELECTRON MARK-8 führt den Photolithographievorgang in zwei Schritten durch. Der erste Schritt ist die Belichtung, bei der Lichtquellen mit unterschiedlichen Wellenlängen verwendet werden, um einen geeigneten Photolack zu belichten, der auf einem vorgemusterten Wafer montiert ist. Dieses Belichtungsmuster wird dann auf den Photolack übertragen, um das gewünschte Schaltungsmuster zu erleichtern. Der zweite Schritt des photolithographischen Verfahrens beinhaltet die Entwicklung einer Reihe chemischer oder physikalischer Behandlungen auf die Photolackschicht, um das gewünschte Muster weiter zu verfeinern. MARK8 bietet ausgezeichnete Bildqualität und überlegene Auflösungsfunktionen, um Geometrie von selbst feinsten Funktionsgrößen zu erreichen. Es enthält auch verschiedene Funktionen und Optionen, die anpassbare Belichtungen ermöglichen und es Benutzern ermöglichen, ihre photolithographischen Prozesse zu optimieren. Einige dieser Optionen umfassen programmierbare Rollläden, optimierte Schlitzprofile und Mehrfrequenzbelichtungstechnologie, um die Belichtungsmuster weiter zu formen und zu steuern. Darüber hinaus bietet MARK-8 doppelte Belichtungsfunktionen, die es Anwendern ermöglichen, beispiellose Präzision im Umgang mit mehreren Belichtungen zu erzielen. Die umfassende Auswahl an Funktionen, die in TOKYO ELECTRON enthalten sind MARK8 machen es zu einer idealen Wahl für jede Organisation, die hochpräzise Komponenten für ihre elektronischen Anwendungen herstellen möchte. Mit diesem leistungsstarken photolithographischen System lassen sich hochgenaue und hoch optimierte Ergebnisse erzielen, was es zum perfekten Werkzeug für die ultrafeine Mikroelektronik-Entwicklung macht.