Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9206056 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung für hochpräzise Lithographieverfahren. Es ist für ultrahochauflösende Bildgebung mit einer Auflösung von einem halben Mikron (0,5 μ m) ausgelegt. Es besteht aus mehreren Komponenten, die zusammenarbeiten, um ein komplettes Photoresist-Mustersystem zu schaffen. Im Kern der Einheit befindet sich der Bildgeber, der die Fotomaske liest und dann ein Bild auf den photoresistbeschichteten Wafer projiziert. Es verwendet die modernsten Mikrolithographie-Techniken, wie KrF Excimer-Laser-Lichtquelle und Quadrupol-Spiegel, um das Bild zu fokussieren und es präzise auf den Wafer zu übertragen. TEL MARK8 verfügt zudem über eine automatisierte Waferausrichtmaschine. Dadurch kann das Werkzeug ein Muster auf einer Photomaske genau auf das gleiche Muster auf einem Wafer ausrichten. Dadurch wird sichergestellt, dass das Muster exakt repliziert wird. Dank der fortschrittlichen Optik, der hochauflösenden Bildgebung und des automatisierten Ausrichtungsmodells ist TOKYO ELECTRON MARK-8 ideal für Anwendungen, die höchste Genauigkeit und Präzision in ihren Prozessen erfordern, wie die Herstellung von Halbleitern und Mikroelektroniken. Zusätzlich beinhaltet TEL/TOKYO ELECTRON MARK8 eine Waferbelichtungsanlage. Dieses System ist für die Belichtung, Entwicklung und Resistbearbeitung des Wafers verantwortlich. Dies geschieht durch fortgeschrittene Stepper, Aligner, Entwickler und Resisteinheit Komponenten. Das Ergebnis ist eine hochwertige, kostengünstige Strukturierung mit sehr hoher Ausbeute. Schließlich ist TEL MARK-8 für anspruchsvollste Umgebungen konzipiert und bietet ein umfassendes Sicherheitspaket. Die Maschine ist so konzipiert, dass sie verschiedene Sicherheitsstandards erfüllt, wie z. B. einen Laser der Klasse 1 und ein lokales Auspuffwerkzeug, um sicherzustellen, dass der Bediener bei Photoresistbelichtungen geschützt ist. Abschließend ist TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 eine leistungsfähige und zuverlässige Photolackanlage, die sehr präzise Lithographieverfahren mit hohen Erträgen bietet. Seine Kernkomponenten sind Mikrolithographietechnologien, automatisierte Waferausrichtung und ein integriertes Waferbelichtungsmodell. Darüber hinaus ist die Ausrüstung so konzipiert, dass sie in anspruchsvollen Produktionsumgebungen sicher und zuverlässig ist.