Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9215817 zu verkaufen

ID: 9215817
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
(2) Coater / (2) Developer system, 8" 4 HP (4) CP (3) DHP (3) 2-1 RRC EBR Stepping (2) 2-2 RRC DEV Flowmeter digital type E2 I/F NIKON THC C/B (3L x4) LtR 1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist eine Art Photoresist-Ausrüstung, die fortschrittliche lithographische Techniken verwendet, um das Ätzen von Schaltungen oder anderen komplizierten Mustern und Formen zu Substratmaterialien wie Silizium oder Metall zu erleichtern. Insbesondere kann mit dem Photoresistsystem TEL MARK8 das Substrat gegen Ätzen isoliert werden, indem gezielt nur ausgewählte Teile des Substrats geätzt werden können und die Photoresistschicht zum Schutz anderer Teile des Substrats vor dem chemischen Ätzprozess eingesetzt wird. TOKYO ELECTRON MARK-8 Photoresist Unit beinhaltet ein zweistufiges Verfahren, das mit der Abscheidung einer sehr dünnen Photoresist-Beschichtung auf das Substrat beginnt. Nach dem Aufbringen von Photolack belichtet MARK-8 Maschine dann den Photolack mit Licht einer vorbestimmten Wellenlänge, wodurch innerhalb des Photolacks eine chemische Veränderung auftritt, die es ihm ermöglicht, dem Ätzvorgang in Abhängigkeit von der Dicke der Photolackschicht zu widerstehen oder zu ermöglichen. Das anschließende Einätzen eines Musters in das Substrat erfolgt dann mit hochpräziser Strahlfokussierung, was durch die modernsten Technologien MARK8 Photoresist-Werkzeugs ermöglicht wird. Substratmaterialien können auch bei komplexen Mustern und Formen, wie sie in integrierten Schaltungen und mikroelektronischen Bauelementen vorkommen, sehr genau vor Ätzungen geschützt werden. Darüber hinaus bietet TOKYO ELECTRON MARK8 asset dem Anwender eine große Auswahl an Photoresist-Lösungen, die es dem Anwender ermöglichen, seine Anwendung exakt auf optimale Ergebnisse abzustimmen. Insgesamt ist TEL/TOKYO ELECTRON MARK8 ein hochkarätiges Photoresist-Modell, das das präzise Ätzen komplizierter Muster und Formen auf Substraten wie Silizium oder Metall ermöglicht. Das zweistufige Verfahren der Photoresist-Abscheidung und -Belichtung führt zu einer chemischen Transformation der Photoresist-Schicht, die entweder ein Ätzen erlaubt oder schützt, während die fortgeschrittenen Strahlfokussierungsfähigkeiten von TEL Mark 8 dafür sorgen, dass der Ätzprozess mit einer sehr hohen Genauigkeit abläuft. Mit seinem umfassenden Angebot an Photolacklösungen ist Mark 8 die bevorzugte Wahl für Anwender, die ein zuverlässiges, hochpräzises Ätzen ihrer Substrate suchen.
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