Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9216280 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist ist ein Hochleistungs-Photolithographie-System zur Herstellung von präzisen mikroelektronischen Geräten. Es verwendet fortschrittliche Photolacktechnologie, um Halbleiterscheiben mit winzigen Schaltkreisen schnell und präzise zu strukturieren. TEL MARK8 Gerät ist mit einer fortschrittlichen Wafer-Scanner-Maschine ausgestattet, die Dual-Strahl-Laser-Strukturierung verwendet, um genau zu platzieren und zu belichten Spuren von Photolack auf Wafern. Der abgetastete Laser hat auch die Fähigkeit, Fokus, Pulsbreite und Leistungspegel einzustellen, was eine äußerst genaue Verarbeitung der Photolackschicht ermöglicht. Dieses Scanwerkzeug, kombiniert mit der fortschrittlichen Fotoresist-Formulierung, ermöglicht eine präzise und wiederholbare Photoresist-Verarbeitung mehrerer Wafer gleichzeitig mit minimaler Rüstzeit. TOKYO ELECTRON MARK-8 verfügt auch über eine Dual-Strahl-Laser-Scananlage, die mit einer oberen/unteren Linsenmusterkorrektur-Option ausgestattet ist, die die Leistung des Modells weiter verbessert. Dadurch kann der Laserscanner jede Oberflächenverzerrung oder Deformation des Wafers aufgrund von Verarbeitungstemperaturen oder Belichtungszeiten kompensieren. Das Gerät verfügt auch über eine fortschrittliche Lithographie-Management-Suite, die eine sichere Speicherung von Wafermustern und eine schnelle Übertragung von Daten zwischen Wafer und Programmsystem umfasst. TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 unit ist sowohl für Produktions- als auch für Forschungsumgebungen konzipiert und wird durch die robuste kontinuierliche Prozessunterstützungstechnologie von TEL unterstützt. Die Maschine ist mit benutzerfreundlichen Produktionsmanagementwerkzeugen und automatisierten Laufzeitanalysen ausgestattet, die die Überwachung und Optimierung der Leistung des Werkzeugs unterstützen. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON MARK8 Photoresist Asset ein fortschrittliches Photolithographiemodell zur Herstellung von präzisen mikroelektronischen Bauelementen. Es verfügt über eine Dual-Strahl-Laser-Musterausrüstung für erhöhte Genauigkeit und Geschwindigkeit und ein fortschrittliches Lithographie-Management-System für benutzerfreundliches Produktionsmanagement. Die fortschrittliche Photoresist Formulierung und Upper/Lower Lens Pattern Correction Option bietet überlegene Leistung für wiederholbare Photolithographie von mehreren Wafern.