Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9239619 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8
ID: 9239619
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
Coater system, 8" 1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist Equipment ist ein umfassendes Werkzeug, das eine breite Palette von funktionellen Vorteilen für die Herstellung von Halbleiterbauelementen bietet. Dieses System ist eine fortschrittliche Photoresist (PR) -Verarbeitungslösung für die Hochgeschwindigkeits- und High-dem-Chip-Produktion. TEL MARK8 wurde von TEL, einem weltweit führenden Anbieter von Halbleiterausrüstungen, hergestellt und ist eine vollautomatische Lithographieeinheit, die für den Einsatz mit 193 nm und tiefen ultravioletten Belichtungsquellen entwickelt wurde. Die Maschine umfasst eine Reihe von Bearbeitungskammern, die mit einer Reihe integrierter photochemischer Komponenten ausgestattet sind. Diese Komponenten bilden ein umfassendes PR-Werkzeug, das die Reinigungs-, Beschichtungs- und Belichtungsprozesse für eine Vielzahl von PR-Typen reguliert und es Anwendern ermöglicht, die Prozesswiederholbarkeit zu optimieren, Zykluszeiten zu reduzieren und die Photoresistausbeute zu erhöhen. Die fortschrittliche Beschichtungslösung, die in TOKYO ELECTRON MARK-8 Plattform eingesetzt wird, ist in der Lage, alle bestehenden PR-Prozesse zu handhaben, einschließlich thermischer und nanoskaliger Materialien. Das Tool wurde entwickelt, um die Anforderungen der fortschrittlichen F&E- und kommerziellen Produktion zu erfüllen und PR-Leistung bei Funktionsgrößen von 14 nm oder weniger zu bieten, während es auch schnelle, nicht reflektierende und kurze Zykluszeiten bietet. TOKYO ELECTRON Mark 8 Asset kann eine breite Palette von PR-Eigenschaften aufnehmen, wie Dickenbereich, Brechungsindex-Erfrischungsrate, maximale und minimale Mengen an Lösungsmitteln und Haftung. Modellsoftware ist in der Lage, PR-Eingänge, die für den optimalen Prozess jedes Geräts benötigt werden, aktiv zu verwalten, anzupassen und zu verfolgen. Darüber hinaus bietet das Gerät intelligente Temperaturregelungsalgorithmen, mehrschichtige ultradünne Filmsteuerung der PR-Schicht und ein überlegenes Kontaminationsmanagement, das eine längere Lebensdauer des Fotolacks ermöglicht. Mark 8 ist außerdem mit einem robusten Messsystem ausgestattet, das die Kontrolle der Gleichmäßigkeit der Beschichtung und anderer Parameter ermöglicht, die für Hochgeschwindigkeits-photochemische Prozesse erforderlich sind. Das Gerät bietet mehrere Zugriffsanschlüsse, die eine weiträumige Belichtung und Optimierung des PR-Prozesses ermöglichen. Es bietet auch bewährte Genauigkeit für Substratausrichtung und Photolackvertiefung. Dadurch können Anwender eine höhere Bildauflösung und einen höheren Kontrast erreichen als bisher möglich. Zusammenfassend ist MARK-8 PR-Maschine ein fortschrittliches, umfassendes und benutzerfreundliches Werkzeug, das den steigenden Anforderungen der Halbleiterindustrie gerecht wird. Mit integrierten Photochemie-Komponenten, überlegenen Temperaturregelungsalgorithmen und robusten Messtechnik-Systemen können Anwender sicher sein, dass die Anlage in der Lage ist, eine zuverlässige und wiederholbare PR-Verarbeitungslösung zu liefern.
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