Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9276285 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist eine Photoresist-Ausrüstung für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Es ist ein System von Techniken, die im lithographischen Prozess verwendet werden, um Formen von einer Mustervorrichtung oder einem Retikel auf einen Wafer zu übertragen. TEL MARK8 ist die fortschrittlichste Photoresist-Einheit seiner Generation und verwendet mehrere fortschrittliche Techniken, um die zuverlässigste Produktion von Funktionen bis hin zur Nanoskala zu gewährleisten. Die Maschine besteht aus zwei getrennten Komponenten - einem Photoaligner und einem Belichtungswerkzeug - die beide von einer ausgeklügelten Computerbearbeitungseinheit gesteuert werden. Der Photoaligner verwendet eine Laserabtasteinrichtung, die verwendet wird, um eine Musterschablone mit einer sehr feinen Auflösung von 20 Nanometern oder weniger zu erstellen. Diese Schablone wird dann dem Belichtungsmodell zugeführt, das eine UV-Lichtquelle verwendet, um die Formen auf einen Wafer zu „brennen“. TOKYO ELECTRON MARK-8 ist mit fortschrittlicher Software ausgestattet, die die Auflösung des Prozesses steuern und die Qualitätskontrolle über jedes erzeugte Feature gewährleisten kann. Es verwendet eine verteilte optische Korrekturausrüstung und mehrere Stufen der Mustererzeugung, um die konstant feine Auflösung über große Stückzahlen zu erreichen. Das System kann auch Prozessparameter wie Belichtungszeit einstellen, um die optischen Verzerrungen der Einheit zu kompensieren. Zusätzlich verwendet TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 zwei verschiedene Prozesse - den i-Line-Prozess und den EUV-Prozess -, um den lithographischen Prozess weiter zu optimieren. Das i-Line-Verfahren verwendet eine ultraviolette Lichtquelle mit einem Bereich zwischen 13,5 und 13,6 Nanometern, um Strukturen mit sehr feinen Linien bis zu einer Größe von 3 Nanometern zu erzeugen. Das EUV-Verfahren verfügt über eine Quelle für extremes UV-Licht mit einem Wellenlängenbereich von 13,5 Nanometern und kürzer. Dadurch entstehen noch feinere Strukturen mit einer Auflösung von 0,3 Nanometern. MARK8 ist eine fortschrittliche Photoresist-Maschine, die eine zuverlässige und konsistente Produktion von Halbleitereigenschaften mit Nanoskala-Auflösungen ermöglicht. Es verwendet mehrere einzigartige und fortschrittliche Techniken, um Vorlagen zu erstellen, Prozessparameter anzupassen und Lithographie zu optimieren. Das Werkzeug kann mit dem i-Line-Prozess Funktionen mit Auflösungen bis zu 3 Nanometern und mit dem EUV-Prozess eine noch feinere Auflösung von 0,3 Nanometern erzeugen.