Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9314251 zu verkaufen

ID: 9314251
Wafergröße: 4"
(3) Coater system, 4".
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist ist ein vollständig integriertes System zur Entwicklung und Strukturierung von Photoresists. Es bietet branchenführende Genauigkeit und Wiederholbarkeit für die Strukturierung auch empfindlicher Strukturen mit hohen Seitenverhältnissen. Das Gerät kombiniert modernste Hardware- und Softwarekomponenten zu einer umfassenden Lösung für die strukturierte Photolackverarbeitung. TEL MARK8 nutzt eine motorisierte Bühne mit präzisem Linearantrieb und einem hochauflösenden digitalen Mikroskop, um eine präzise Positionierung und Manipulation des Photolackmaterials zu ermöglichen. Diese Stufe kann Muster und Bewegungen genau wiederholen, um den Durchsatz zu erhöhen. Die Stufe wird über die Steuerungssoftware computergesteuert, was die Einrichtung und Analyse der Prozessparameter vereinfacht. Die Maschine umfasst auch Präzisions-UV-Bestrahlung und Optik zur Strukturierung des lichtempfindlichen Materials. TOKYO ELECTRON MARK-8 verfügt über einen mehrwelligen Lichtmotor mit motorisiertem Dämpfer zur Steuerung der Belichtungsdosis. Der Lichtmotor weist außerdem einen verstellbaren Kollimator zur Verengung des Belichtungsfeldes und einen Verschluss zur Burstmodus-Belichtung auf. TEL Mark 8 verfügt über ein integriertes Softwarepaket, das Software zur Steuerung der Belichtung und optischer Parameter sowie Standardvisualisierungs-, Algorithmus-, Grafik- und Analysetools umfasst. Umfassende Stellenplanung, Rezeptbearbeitung und Datenverwaltung sind ebenfalls enthalten. Die Software ist so konzipiert, dass sie den Produktions- und Forschungsanforderungen des Benutzers entspricht. TEL MARK-8 Werkzeug ist für den Einsatz mit lichtempfindlichen Materialien wie Resist, Acrylat und anderen lichtempfindlichen Polymeren konzipiert. Es ist auch mit verschiedenen Mustertechniken wie Spin, Spray und Aerosol-Beschichtung kompatibel und kann sowohl für positive als auch negative Musterung verwendet werden. Die Anlage wurde mit Fokus auf Prozesskontrolle, Genauigkeit, Qualität und Geschwindigkeit entwickelt. Dadurch kann der Anwender in kürzerer Zeit bessere Ergebnisse erzielen. Alle diese Elemente verbinden sich zu einem fortschrittlichen Photolackmodell, das präzise und wiederholbare Muster auch im Nanoskala erzeugen kann. Mark 8 Photoresist Ausrüstung bietet eine ideale Lösung für Forschung und Produktion Musterung Anwendungen für eine Vielzahl von Branchen.
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