Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9351474 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 ist eine hochmoderne Photoresist-Ausrüstung zur Herstellung dünner Wafer-Geräte auf Submikron-Ebene. Dieses System verfügt über fortschrittliche und präzise Abbildungsoptiken, die ein fokussiertes und klares Bild eines Geräts erzeugen und eine konsistente, genaue und saubere Ausrichtung der Photolithographie ermöglichen. Darüber hinaus ist die Sub-One-Wellenlängenmethode von TEL MARK8 in der Lage, komplizierte Muster in einer Vielzahl von Geräten im Sub-Micron-Bereich zu erzeugen. TOKYO ELECTRON MARK-8 hat drei Hauptkomponenten: einen Quelleneingang, eine optische Projektionseinheit und einen Resistbeschichtungsmechanismus. Der Quelleneingang ist mit einer Vielzahl von Laserquellen kompatibel und ermöglicht eine Reihe von rechnerisch erzeugten Belichtungsprofilen. Die optische Projektionsmaschine ist das Herzstück des Werkzeugs und besteht aus einer UV-Lichtquelle, einem programmierbaren optischen Scanner und einem Abbildungsobjektiv. Durch die Steuerung des Timings und der Richtung des UV-Strahls kann dieses Gut hochgenaue Bilder bei Untermikron-Merkmalsgrößen erzeugen. Der Resist-Beschichtungsmechanismus des Modells gibt Photoresist auf extrem präzisem Niveau auf den Wafer aus. Dank dieser Genauigkeit ist die Resistschicht im gesamten Gerät konsistent und gleichmäßig. TOKYO ELECTRON MARK8 verfügt auch über mehrere fortschrittliche technologische Merkmale. Beispielsweise ist die Laserabtast- und Belichtungseinrichtung zur Echtzeit-Belichtungsabtastung in der Lage, was ideal für Dünnschichtgeräte ist. Es kann für simultane Lithographie- und Belichtungsvorgänge verwendet werden, was zu einem höheren Durchsatz führt. Darüber hinaus kann dieses System Oberflächenfehler und Kantenschäden schnell und genau analysieren, um Nachbearbeitungskosten durch präventives Entfernen von beschädigten Bereichen zu reduzieren. Zusammenfassend ist TEL Mark 8 eine hochentwickelte Photolackeinheit, die präzise Geräte mit präziser Laserabtastung herstellen kann. Durch die programmierbare Abbildungsoptik, die Sub-One-Wellenlängenmethode und zusätzliche Funktionen wie Echtzeit-Belichtungsabtastung ist diese Photoresist-Maschine in der Lage, multifunktionale Lithographieausrichtung und widerstandsfähige Beschichtungsoperationen mit hoher Genauigkeit und Durchsatz.