Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9364571 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist Equipment ist ein Photolithographiesystem, das bei der Herstellung von kleinen Strukturen wie integrierten Siliziumschaltungen eingesetzt wird. Es ist in der Lage, Auflösung bis zu 0,28 Mikrometer drucken, so dass die Herstellung von minimal dimensionierten Komponenten. Die optische Einheit von TEL MARK8 basiert auf einer fünfkomponentigen optischen Maschine, bestehend aus einer g-Linien-Lichtquelle (mit einer Wellenlänge von 436 nm), einer Belichtungslinse, einem optischen Werkzeug zur Formkorrektur, einer Objektivlinse und einem Retikel, das das Master-Muster enthält. Hauptbestandteil von TOKYO ELECTRON MARK-8 ist die Belichtungsanlage, die aus einer Beleuchtungsquelle, einer Belichtungsoptik, die das Licht auf den Wafer lenkt, einem Beleuchtungsfenster und einem Bildmessmodell (EMS) besteht. Die Beleuchtungsquelle erzeugt energieeffiziente Laser bei 435-438nm, die dann von der Belichtungsoptiklinse gesammelt, kollimiert und auf den mit Photolack bedeckten Wafer fokussiert werden. Der Wafer wird dann auf eine X-Y-Stufe zur Bewegung entlang der x-y-Achse positioniert. Um eine genaue Positionsregelung zu gewährleisten, wird die Erregung der magnetoinduktiven Messeinrichtung und des Nullablenksystems verwendet. Das Muster der Photolackschicht, die auf den Wafer übertragen wird, wird dann mit der EMS-Einheit auf Fehler überprüft. Die EMS-Maschine verwendet ladungsgekoppelte Geräte (CCDs), um das vom Muster reflektierte Licht zu absorbieren und erstellt mit optischen Methoden eine virtuelle Karte des begrenzten Musters. TEL/TOKYO ELECTRON MARK8 Tool verwendet Verfahren wie Spin-Coating, Pre-Backen, Laserlicht ausgesetzt, Post-Exposure-Backen und Entwicklung. Nach dem Schleudern und Vorbacken des Wafers wird dieser dann mit Hilfe der Belichtungsoptik dem Laserlicht der Beleuchtungsquelle ausgesetzt, das auf die Oberfläche des Wafers fokussiert wird. Nach der Belichtung wird der Wafer nachbelichtet, gefolgt von einem Entwicklungsprozess mit Methanol oder einer milden Säure zur Entfernung der belichteten Photoresistschicht, wobei das auf dem Wafer aufgedruckte Muster zurückbleibt. TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 Asset umfasst auch zahlreiche Sicherheitsmerkmale wie ein Verschlussfreigabemodell, das eine langfristige Belichtung der Lichtquelle, eine erhöhte flammhemmende Polystyrol-Innenstruktur und die Verwendung einer stickstoffhaltigen Umgebung für eine variable Druckresistenbeschichtung verhindert. Zusätzlich wird die Anordnung des Wafers und die Bewegung der X-Y-Stufe durch eine in seinem Schaltschrank untergebrachte Rechnereinrichtung mit Niederspannungsregelelektronik gesteuert. Diese Eigenschaften ermöglichen TEL Mark 8 eine hohe Genauigkeit, eine sauberere Produktion und eine minimierte Partikelverunreinigung sowohl während des Herstellungsprozesses als auch während des Endbenutzereinsatzes. TEL MARK-8 Photoresist System ist ein wesentliches Werkzeug für die Herstellung von hochgenauen und zuverlässigen Transistorpegel elektronischen Geräten.