Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8 #9364572 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark 8
ID: 9364572
Wafergröße: 6"
(2) Coater / (2) Developer systems, 6".
TEL/TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist ist die neueste Generation von Photolithographie-Systemen des renommierten Halbleiteranlagenherstellers TEL. TEL MARK8 Photoresist-System ist die fortschrittlichste Einheit seiner Art und ermöglicht die präzise Strukturierung komplizierter und komplizierter Muster auf verschiedenen Substraten. TOKYO ELECTRON MARK-8 Maschine kombiniert die neuesten Fortschritte in der Präzisionsoptik, fortschrittliche chemische Verarbeitungstechniken und Hochleistungsroboterautomatisierung für beispiellose Genauigkeit, Geschwindigkeit und Wiederholbarkeit. Mit seinem leistungsstarken Beleuchtungswerkzeug und der automatisierten Handhabung der Photomaske und des Wafer-Staplers kann TEL MARK-8 Asset sich schnell bewegen, fokussieren und selbst die kompliziertesten Muster mit höchster Präzision belichten. TOKYO ELECTRON MARK8 Modell verfügt auch über eine fortschrittliche Multi-Spot-Overlay-Ausrüstung, die die Erzeugung großer Muster in einer einzigen Belichtung ermöglicht, ohne die Präzision des Musters zu enthalten. Dies ermöglicht eine schnelle großflächige Belichtung komplizierter Muster und einen höheren Durchsatz an Bauteilen. Darüber hinaus verwendet das System eine hochpräzise, lasergeätzte Fotomaske mit knackig definierten Mustern für genaue Ergebnisse. TEL/TOKYO ELECTRON MARK-8 unit verfügt zudem über eine vollautomatische, hochleistungsfähige nasschemische Bearbeitungsmaschine, die die Auswirkungen von Kontamination, Phasentrennung, Resistmusterverzerrung und Ätzfehlern, die bei der Verarbeitung von Photoresist auftreten, minimiert. Das naßchemische Werkzeug ermöglicht auch die Abscheidung von Abmessungen von 50 nm bis zu mehreren hundert Mikrometern. Mark 8 Photoresist Asset ist auch kompatibel mit einer Reihe von Resistmaterialien, wie Positive, Negative und Semi-Positive. TEL/TOKYO ELECTRON MARK8 Modell balanciert intelligent mehrere wichtige Parameter wie Temperatur, Druck, Geschwindigkeit und Zeit, um eine konsistente und wiederholbare Verarbeitung jeder Charge von Photolack zu gewährleisten. Dies ermöglicht es Benutzern, Oberflächenstruktur zu erhalten und Schrumpfung konsistent mit den angegebenen Mustern und richtigen Ätztiefen zu widerstehen. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Mark 8 Photoresist eine effiziente und leistungsstarke Lösung für jeden Lithographieauftrag. Die Flexibilität, Genauigkeit und Wiederholbarkeit des Systems führen zu einer beispiellosen Präzision, die keinen Raum für Rätselraten oder Fehler lässt. Mit diesen Funktionen kombiniert, ist MARK8 Einheit ein zuverlässiges Arbeitstier für die Lithographie-Anforderungen jeder Organisation.
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