Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #293662824 zu verkaufen
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TEL/TOKYO ELECTRON MARK II ist eines der fortschrittlichsten Photolacksysteme auf dem Markt. Es wird verwendet, um lithographische Muster auf einem Substrat, typischerweise einem Halbleiter, zu erzeugen. TEL MARK II-Geräte verwenden dazu zwei Hauptkomponenten: eine ultraviolette Lichtquelle und eine projektive Lithographielinse. Die ultraviolette Lichtquelle dient zur Bestrahlung eines lichtempfindlichen Photolackmaterials, das das Substrat beschichtet. Die projektive Lithographielinse dient dann dazu, dieses Licht auf das Substrat zu fokussieren, wodurch ein hochgenaues Muster auf der Oberfläche entsteht. TOKYO ELECTRON MARK II System ist für Anwendungen konzipiert, die eine enge Kontrolle der Lichtbestrahlung und eine genaue Musterdefinition erfordern. Die Photomaske wird hochauflösend abgetastet, um eine optimale Definition der Muster zu gewährleisten, und die verwendete Lichtquelle ist auf maximale Konsistenz ausgelegt. Darüber hinaus kann der Photolack automatisch in verschiedenen Mustern über das Substrat verteilt werden, was eine vollständige Kontrolle der Musterdefinition ermöglicht. MARK II ist voll integriert und bietet eine kompakte, effiziente und kostengünstige Lösung für Photolackprozesse. Die Fotomaske kann geändert werden, ohne dass das Gerät geöffnet werden muss, und die Maschine enthält Bildausgabemöglichkeiten für den Mustervergleich und die Archivierung der Ergebnisse. Das Tool wird von einem ausgeklügelten Automatisierungs-Asset gesteuert, das eine schnelle und einfache Einrichtung von Rezepten und Operationen ermöglicht. Eine Reihe von Zubehör ist auch mit TEL/TOKYO ELECTRON MARK II Modell, einschließlich automatischer Schneiden, Kantenschräger und Spinner. Dieses Zubehör trägt dazu bei, die Genauigkeit und Wiederholbarkeit des Photolackprozesses zu gewährleisten. Die Photoresist-Ausrüstung TEL MARK II ist auch voll kompatibel mit fortschrittlichen Prozessleitsystemen wie der EDAX-Signalverarbeitungssoftware, die eine weitere Optimierung und Steuerung des Photoresist-Prozesses ermöglicht. Insgesamt ist das TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist System eine hochentwickelte, automatisierte Lösung für fortschrittliche Photolithographieverfahren. Das Gerät ist auf Genauigkeit und Wiederholbarkeit ausgelegt und bietet mit seinen Funktionen, Zubehör und der Kompatibilität mit fortschrittlichen Prozessleitsystemen die Flexibilität, die für komplexe und anspruchsvolle Lithographieanwendungen erforderlich ist.
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