Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #293700415 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II ist eine anspruchsvolle Photolackverarbeitungsanlage, die in der Halbleiterindustrie für fortschrittliche Lithographieanwendungen eingesetzt wird. Dieses System wurde entwickelt, um präzise Steuerungs- und Hochdurchsatzfunktionen für die Abscheidung und Strukturierung von Photolackmaterialien auf Halbleiterscheiben bereitzustellen. Das Photolackverfahren ist ein kritischer Schritt bei der Herstellung integrierter Schaltungen, da es das Muster der Schaltungsmerkmale auf der Waferoberfläche definiert. TEL MARK II Gerät ist mit fortschrittlicher Technologie ausgestattet, um überlegene Leistung in Bezug auf Auflösung, Gleichmäßigkeit und Produktivität zu erreichen. Die Maschine verfügt über ein hochpräzises Waferfutter, das eine stabile und genaue Positionierung der Wafer während des Photoresist-Abscheidungsprozesses ermöglicht. Dadurch wird sichergestellt, dass der Photolack gleichmäßig über die Waferoberfläche aufgebracht wird, was zu konsistenten Musterergebnissen führt. Eine der Schlüsselkomponenten des TOKYO ELECTRON MARK II Werkzeugs ist das Photoresist Dispensing Modul, welches für die exakte Ausgabe des Photoresist Materials auf die Waferoberfläche verantwortlich ist. Die Anlage wurde entwickelt, um eine Vielzahl von Photoresist-Formulierungen, einschließlich positiver und negativer Photoresists, zu behandeln, um unterschiedlichen Prozessanforderungen gerecht zu werden. Das Ausgabemodul verwendet fortschrittliche Steuerungsalgorithmen, um eine präzise Steuerung des Volumens und des Durchflusses des Fotolacks zu erreichen und eine gleichmäßige Abdeckung des Wafers zu gewährleisten. Neben dem Spendemodul ist das MARK II-Modell mit einem ausgeklügelten Spin-Coater-Modul ausgestattet, das zum Spinnen des Wafers mit hohen Geschwindigkeiten verwendet wird, um eine gleichmäßige Photoresist-Beschichtung zu erzielen. Das Spin Coater Modul verfügt über programmierbare Spin-Profile, die angepasst werden können, um die Dicke und Gleichmäßigkeit der Photolackbeschichtung für verschiedene Arten von Photolackmaterialien und Prozessbedingungen zu optimieren. TEL/TOKYO ELECTRON MARK II-Geräte beinhalten auch ein mehrstufiges Heizplattenmodul für Post-Exposure-Bake (PEB) -Prozesse. Das Heizplattenmodul ist so konzipiert, dass es eine präzise Temperaturregelung und eine gleichmäßige Erwärmung des Wafers ermöglicht, um die Leistung der Photoresist-Strukturierung zu verbessern und die Haftung und Stabilität der Photoresist-Schicht zu verbessern. Darüber hinaus ist das TEL MARK II-System mit fortschrittlichen Messtechnik-Tools zur In-situ-Überwachung und Steuerung der Photoresist-Prozessparameter ausgestattet. Das Gerät verfügt über eine Echtzeit-Überwachung kritischer Prozessparameter wie Filmdicke, Gleichmäßigkeit und chemische Zusammensetzung, die eine sofortige Rückmeldung und Anpassung ermöglicht, um konsistente und zuverlässige Prozessergebnisse zu gewährleisten. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON MARK II eine hochmoderne Photolackverarbeitungsanlage, die fortschrittliche Fähigkeiten für Hochleistungs-Lithographieanwendungen in der Halbleiterindustrie bietet. Mit seiner Präzisionssteuerung, seinem hohen Durchsatz und seinen fortschrittlichen messtechnischen Merkmalen eignet sich dieses Tool gut für anspruchsvolle Halbleiterherstellungsprozesse, die eine enge Kontrolle der Photolackabscheidung und -musterung erfordern.