Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #293748580 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipment ist ein hochmodernes System mit modernster Leistung in der Photolithographie. Photolithographie ist ein Werkzeug, das bei der Herstellung von Halbleitern und anderen elektronischen Bauelementen verwendet wird, um Merkmale und Muster in einem Substrat zu erzeugen. TEL MARK II Photoresist Unit ist für den Einsatz in ultrakleinen, hochpräzisen Lithographieanwendungen konzipiert. Die leistungsstarke und dennoch kompakte Maschine bietet schnelle und präzise Beschichtungs- und Bildgebungsfunktionen. Das Werkzeug ist mit einem hochpräzisen Flüssigkeitsspender, einem programmierbaren Roboterarm und einer bildgebenden Komponente ausgestattet, die eine präzise Kontrolle über Belichtungs- und Intervallparameter ermöglicht. Der hochpräzise Flüssigkeitsspender des Modells soll eine gleichmäßige Schicht des Photolacks über dem Substrat abscheiden. Der Roboterarm positioniert dann genau das Material für die Belichtung mit Licht, und die bildgebende Ausrüstung bietet eine genaue Kontrolle über die Intensität, Dauer und Einfallswinkel der Belichtung. Das System verfügt über eine dreistufige Belichtungseinheit, bestehend aus einer Lichtquelle, einer Bandmaschine und einer Fotomaske. Die Lichtquelle besteht aus einer Vielzahl von Xenon-Lichtbogenlampen, UV-Laserdioden und DXR-Quellen, die eine Reihe von Belichtungsintensitäten und Pulslängen bereitstellen. Das Riemenwerkzeug ist mit verschiedenen Funktionen ausgestattet, wie einer X-Y-Translationsstufe, einem fokussierten Zoommikroskop mit einer Reihe von Erweiterungen und einer schrittmotorisch angetriebenen Fokus- und Zoomsteuerung. Mit der Fotomaske werden Bildmuster präzise auf das Substrat übertragen. Die Anlage umfasst auch einen integrierten Flüssigkeitsabgaberoboter, einen chemischen Bearbeitungsroboter und einen Echtzeitmonitor. Der Flüssigkeitsabgaberoboter legt eine gleichmäßige, poröse Beschichtung aus Photolack auf das Substrat, und der chemische Verarbeitungsroboter steuert die Applikation, das Backen, die chemische Verarbeitung und das Nachbacken für die Aufbereitung des Substrats zur Belichtung. Der Echtzeit-Monitor unterstützt den Bediener bei der Überwachung der Einspritz- und Aushärtungsprozesse, der Belichtung des Substrats mit der Lichtquelle und der Steuerung von Backparametern nach der Belichtung. Darüber hinaus ist das Modell mit einer Reihe von messtechnischen Funktionen ausgestattet, um Genauigkeit und Einheitlichkeit auf der ganzen Linie zu gewährleisten. Diese Funktionen umfassen die automatische Ausrichtung des Mikrometers, die Fokustiefenbeobachtung und die Lichtmessung während der Photolithographie. Insgesamt bietet TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipment beispiellose Genauigkeit, Präzision und Wiederholbarkeit bei der Erstellung von Merkmalen und Mustern in einem Substrat. Mit seinen innovativen Funktionen und Fähigkeiten kann das System verwendet werden, um praktisch jede denkbare Funktionsgröße und Komplexität zu erzeugen.