Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9181758 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipment ist ein Top-of-the-line Photoresist Gerät in der Photolithographie und Mikroelektronik Herstellung verwendet. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das verwendet wird, um Muster auf einem Halbleitermaterial zu erzeugen, um ein Halbleiterbauelement herzustellen. TEL MARK II nutzt die neueste Technologie, um präzise, wiederholbare Bedingungen für die Photolackverarbeitung bereitzustellen. Das System besteht aus mehreren Teilen, darunter einer Prozessoreinheit, einer digitalen Schnittstelle, einem Photolackverstärkungsregler, einer Kammersteuerung und einer Wafer-Handhabungseinheit. Die Prozessoreinheit kann bis zu 30 verschiedene Behältertypen für die Verarbeitung von Photolack unterstützen, einschließlich herkömmlicher Spin- und Spray-on-Anwendungen. Damit ist sichergestellt, dass mit der TOKYO ELECTRON MARK II Maschine ein breites Spektrum an Photolack verwendet werden kann. Die Prozessoreinheit enthält auch temperatur- und zeitbasierte programmierbare Parameter sowie die Möglichkeit eines Photogranulometers zur Beurteilung der Qualität des Photolacks. Die digitale Schnittstelle ermöglicht eine einfache Integration des Tools in andere Photolithographiesysteme und ermöglicht einen schlanken, automatisierten Workflow. Die Photolackverstärkungsregelung stellt sicher, dass während des Belichtungsprozesses die richtige Menge an Lichtenergie verwendet wird. Das Kammersteuermodul umfasst eine hochpräzise Temperaturregelung mit Vakuumpumpe und Rezirkulationsschleife, die eine konstante Prozesstemperatur für den Photolack ermöglicht. Schließlich sorgt die Wafer-Handhabungseinrichtung für eine empfindliche und genaue Bewegung der Substrate beim Umzug von der Hauptprozessoreinheit in die Kammer. Das Modell beinhaltet auch eine Sensorausstattung zur ständigen Überwachung der Photolackdicke sowie eine Echtzeit-Prozessdatenerfassung. Dies ermöglicht eine Änderung des Verfahrens, um Änderungen der Photolackdicke zu berücksichtigen und die Prozesszeit zu verkürzen. Zusätzlich gibt es Umgebungssensoren, die die Temperatur und Feuchtigkeit der Fotolackumgebung überwachen. Dadurch wird sichergestellt, dass die bestmöglichen Bedingungen für die Photolackverarbeitung eingehalten werden. Insgesamt ist MARK II ein leistungsfähiges und fortschrittliches Photolackverarbeitungssystem. Mit benutzerfreundlicher Bedienung, erstklassiger Leistung und empfindlicher Handhabung ist es die perfekte Einheit für die Herstellung von hochwertigem Fotolack.