Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9181759 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON MARK II
ID: 9181759
Wafergröße: 6"
Coaters, 6".
TEL/TOKYO ELECTRON MARK II ist eine Deep-Ultraviolett (DUV) Photoresist-Ausrüstung, die für die Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente entwickelt wurde. Das System besteht aus einer voll ausgestatteten, hybriden Elektronenstrahl- und I-line-Offaxialbelichtungsquelle, kombiniert mit einer vollautomatischen Resist- und Ätzbearbeitungsstation. Das Gerät ist ideal für Halbleiteringenieure, die die Fertigungszykluszeit des Geräts reduzieren und gleichzeitig qualitativ hochwertige Ergebnisse liefern möchten. TEL MARK II ist mit einer fortschrittlichen Elektronenstrahl-Schreibmaschine ausgestattet, die eine niedrige Energiedichte bietet, die eine Minimierung der Resiststreuung ermöglicht und die Belichtung von ultra-engen Merkmalen ermöglicht. Die Strahlquelle kann weiter für eine effiziente Strukturierung von Merkmalen unter 50nm optimiert werden. Die Belichtungsquelle wird um eine Off-Axis-I-Line-Belichtungsquelle erweitert, die eine schnelle Belichtung des gesamten strukturierten Bereichs in einem Schritt ermöglicht. Die Maschine ist mehr als eine Belichtungsquelle. Es wurde auch entwickelt, um die Produktionszeiten zu reduzieren und die Prozessausbeute zu verbessern. Es ist mit einem hochautomatisierten Resistbeschichtungs-, Back- und Entwicklungswerkzeug sowie einem angepassten Ätzbearbeitungsmodul ausgestattet. So können Anwender ganze Prozessabläufe mit minimalem manuellen Eingriff durchführen. Dies gewährleistet einen zuverlässigen und wiederholbaren Musterprozess. TOKYO ELECTRON MARK II verfügt über eine erweiterte benutzerfreundliche Steuerungssoftware, die auf einer grafischen Benutzeroberfläche (GUI) basiert. Die GUI wurde entwickelt, um die Bedienungszeit zu reduzieren und eine schnelle und intuitive Kontrolle des Geräts für selbst die komplexeste Bearbeitungssequenz zu ermöglichen. Insgesamt ist MARK II ein fortschrittliches DUV-Lithographiemodell, das die anspruchsvollsten Musteranforderungen erfüllen kann. Es ermöglicht Anwendern, Prozesszeiten zu reduzieren, Erträge zu erhöhen und die Qualität der Geräteproduktion zu verbessern. Die Ausrüstung ist ideal für diejenigen, die extrem niedrig auflösende Designs mit vollem Vertrauen in Zuverlässigkeit und Wiederholbarkeit produzieren möchten.
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