Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9226101 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON MARK II
ID: 9226101
Wafergröße: 6"
Coater / Developer systems, 6".
TEL/TOKYO ELECTRON MARK II ist eine High-End-Lithographie-Ausrüstung, die Photoresist-Technologie-Prozesse verwendet. Photoresist ist eine fortschrittliche Methode der Mikrofabrikation, die extrem genaue Ergebnisse liefert. Das System TEL MARK II ist für die Herstellung von Halbleiterchips konzipiert und umfasst eine fortschrittliche Kombination von Lithographie-Komponenten. Es verwendet zwei primäre Elemente; ein maskenloser Aligner und ein Stepper. Der maskenlose Aligner ist eine Vorrichtung, die die Gitterstruktur einer Photomaske einem Photonenstrom einer Lichtquelle aussetzt. Die Ausrichtung der Photomaske wird durch eine Reihe von Spiegeln und Galvanometern exakt gesteuert. Der Stepper ermöglicht die präzise Platzierung von Mustern auf Substraten. Der Schrittschalter weist eine bewegliche Stufe und eine Reihe von rechnerisch gesteuerten Motoren auf, die die Platzierung eines Substrats genau steuern. Zusätzlich ist der Stepper mit einer Laserausricht- und Fokuseinheit, einem Ausrichtlicht und einem Strahlverstärker mit einstellbaren Impulsbreiten für eine höhere Auflösung ausgestattet. TOKYO ELECTRON MARK II kann auch in Verbindung mit einer Photoresist-Verarbeitungskammer verwendet werden. Diese Kammer ist eine abgedichtete Einrichtung, in der das Photolackmaterial bearbeitet und auf die Probensubstratoberflächen aufgebracht wird. Während der Photolackverarbeitung können eine Vielzahl von Werkzeugen eingesetzt werden, wie Spin-Coating, Gasaktivierung, Ätzen und Trockenfilmentwicklung. MARK II Maschine ist eine ideale Wahl für lithographische Prozesse, da sie zuverlässige und präzise Ergebnisse liefert. Die Komponenten dieses Werkzeugs sind gut aufeinander abgestimmt und können daher verwendet werden, um Schaltungen in nanoskopischer Größe mit hoher Genauigkeit und Effizienz zu erstellen. Darüber hinaus kann TEL/TOKYO ELECTRON MARK II Asset professionell gewartet und repariert werden, wodurch anspruchsvolle Komponenten mit minimaler Ausfallzeit erstellt werden können.
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