Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9226207 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für die Entwicklung fortschrittlicher elektronischer Schaltungskomponenten entwickelt wurde. Das System nutzt ein neues Verfahren zum Strukturieren und Ätzen dünner Schichten aus Dielektrikum und Metallen mit Hilfe eines speziellen Laserstrahls. Mit diesem Laserstrahl wird eine dünne Photolackschicht auf ein Substrat, wie Siliziumscheiben, strukturiert. Dieser Photolack dient als Abschirmung, um die zugrundeliegenden Schaltungskomponenten vor schädlichen Ätz- und Prozessflüssigkeiten zu schützen, während das Lasermuster eine Lokalisierung des Ätzprozesses an bestimmten Stellen ermöglicht. Diese Photoresist-Einheit ist in der Lage, hochgenaue und hohe Geschwindigkeit Muster Inspektion und feine Musterbildung, so dass es geeignet für Anwendungen wie Halbleiterherstellung, Leiterplatte (PCB) Herstellung und MEMS (mikro-elektromechanische Systeme) Bauelementherstellung. Darüber hinaus verfügt TEL MARK II über eine Batch-Modus-Funktion, mit der mehrere Substrate in einem Prozess strukturiert werden können, und eine Vollfeldmusterfunktion, die die Mustergröße eines Fremdchips leicht ändern kann. TOKYO ELECTRON MARK II verfügt über eine verbesserte, hochgenaue und schnelle Ausrichtmaschine, die die Orientierung und Größe eines Musterbereichs-Substrats genau und schnell erfassen kann. Dieses Tool verfügt auch über einen Autofokus und Mikroskop Integration Asset, die eine genauere Muster-Inspektion ermöglicht. Darüber hinaus bietet das Modell eine integrierte Objektiv-Auto-Füllanlage, die jeden Bereich schnell mit einem bestimmten Material füllen kann. Dadurch entfällt das Rätselraten aus den Abscheideprozessen, da das zum Befüllen benötigte Material vorab programmiert werden kann. Mit dem speziellen MARK II-Spiegelschiebesystem gelangt der Laserstrahl präzise in den gewünschten Bereich. Schließlich ist das TEL/TOKYO ELECTRON MARK II Gerät gut für das Prototyping geeignet, da es mit einem automatischen Wafer-Transfer und einer effizienten Selbstüberwachung ausgestattet ist. Damit können Hersteller Schaltungskomponenten schnell entwerfen und verfeinern, ohne das Material manuell von einem Prozess zum anderen übertragen zu müssen. Diese Maschine bietet zudem verbesserte Kantenabstände und Toleranzen und verbessert ihre Prototyping-Fähigkeiten weiter. Insgesamt ist TEL MARK II ein fortschrittliches Photoresist-Tool, das eine hochgenaue und schnelle Musterinspektion, eine feine Musterbildung und integrierte automatische Füll- und Spiegelschaltsysteme bietet. Dieses Modell eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen, wie Halbleiter- und Leiterplattenherstellung sowie Prototyping.