Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9238268 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist Equipment ist ein hochentwickeltes resistverarbeitendes Bildgebungssystem, das es Anwendern ermöglicht, hochpräzise Bilder auf verschiedene elektronische Substrate und Komponenten zu präzisieren. Insbesondere eignet sich die Einheit für den Einsatz bei der Herstellung fortgeschrittener Halbleiter- und mikroelektronischer Bauelemente und Bauelemente. Die photowiderstehen Maschine ist eine einheitliche Plattform, dass speziell angefertigte in einer Prozession gehende Elemente von Vereinigungen, einschließlich der photowiderstehen Voraussetzungsbehandlungseinheit, des tiefen grabenden Werkzeugs, zusammen mit dem fortgeschrittenen sectionalization widerstehen und automatisch Eigenschaften verteilen. Die Anlage wurde entwickelt, um Dünnschichtsubstrate wie Halbleiter mit extrem hoher Geschwindigkeit und extremer Genauigkeit zu verarbeiten. Darüber hinaus ist das Modell in der Lage, eine breite Palette von Lithographietechniken zu unterstützen, einschließlich der Stufenabdeckung (oder „Step-and-Repeat“) Lithographie, bei der extrem präzise Schichten von Mustern auf das Substrat geätzt werden. Die Photoresist-Ausrüstung ist mit einem fortschrittlichen optischen Abbildungssystem ausgestattet, das es Anwendern ermöglicht, Bilder mit ultravioletten Lasern genau zu bilden. Das Gerät ist auch in der Lage, verschiedene hochpräzise Resistvorbehandlungsprozesse durchzuführen, einschließlich Spin-Coating, Spray-Coating und vordefinierte Musterentwicklung. Darüber hinaus kann die Maschine eingesetzt werden, um tiefe Siliziumgrabungsprozesse durchzuführen, die es Anwendern ermöglichen, ultraseichte Gräben mit präziser Intervallsteuerung zu erstellen. Das Photoresist-Tool TEL MARK II bietet eine statistische Prozessüberwachung, mit der Benutzer die Prozessparameter sicher analysieren und hochpräzise Bilder mit wiederholbaren und zuverlässigen Ergebnissen erstellen können. Darüber hinaus verfügt das Modell über ein Profil mit niedrigem Wellenlängenverhältnis, das die gesamte Lichtdurchlässigkeit im Druckprozess gewährleistet. TOKYO ELECTRON MARK II Photoresist-Geräte kombinieren hochentwickelte Optik und Verarbeitungselemente, damit Benutzer feinauflösende Muster auf Dünnschichtsubstraten präzise bilden können. Das System ist sehr zuverlässig und präzise, mit einer breiten Palette von Lithographie- und Resistvorbehandlungsprozessen, kombiniert mit einer hochpräzisen bildgebenden Einheit, die wiederholbare und zuverlässige Ergebnisse gewährleistet. Darüber hinaus sorgt sein niedriges Wellenlängenverhältnis für eine totale Lichtdurchlässigkeit im Druckprozess.