Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON MARK II #9269120 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON MARK II
ID: 9269120
Wafergröße: 6"
Developers, 6".
TEL/TOKYO ELECTRON MARK II ist eine Präzisions-Photoresist-Ausrüstung, die eine genaue Musterbildung in Substraten ermöglicht, die bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet werden. Das Photolacksystem ist Teil einer integrierten Fertigungslinie für die Halbleiterherstellung, die die Bildung von Dünnschichten und Ätzprozesse beinhaltet. TEL MARK II besteht aus dem Photolackverarbeitungsmodul, dem Steuermodul und dem Filmbildungsmodul. Das Photolackverarbeitungsmodul umfasst die Prozesse Nassbank, Tauch- und Spin-Coater-Prozesse. Das Nassbankverfahren beinhaltet das Aufbringen eines nassen Fotolacks mit einer Mikropipette. Der Tauchprozess verwendet eine Taucheinheit aus Tank, Waferlift und Monitor, die eine automatisierte Verarbeitung ermöglicht. Durch das Spin-Coater-Verfahren wird der Photolack auf die Waferoberfläche aufgebracht und zur Erzeugung einheitlicher Photolackschichten verwendet. Das Steuermodul TOKYO ELECTRON MARK II besteht aus einer Benutzeroberfläche, einer Automatisierungssoftware und einem Controller. Es ermöglicht die Auswahl von Prozessparametern wie Photoresist-Typ, Spin-Geschwindigkeit, Belichtungsdosis und Entwicklungszeit. Es ermöglicht dem Benutzer auch, den Produktionszyklus für repetitive Photolackanwendung zu programmieren. Das Filmbildungsmodul der Fotolackmaschine besteht aus zwei Kernkomponenten, einem Filmmodulator und einem Regler. Es ermöglicht die Herstellung von ultradünnen Filmen und Ätzmustern jeder Größe. Der Folienmodulator ermöglicht die genaue Abgabe von Photolack auf das Substrat und erzeugt eine gleichmäßige Schicht. Die Steuerung ermöglicht dann die genaue Steuerung von Ätzprozessen und ist für die Gesamtautomatisierung des Filmbildungsprozesses verantwortlich. Abschließend ist das MARK II Photoresist Tool ein wesentlicher Bestandteil des Halbleiterherstellungsprozesses. Es ermöglicht die Herstellung von dünnen Folien und Ätzmustern genauer Größen und gleichmäßiger Schichten und gewährleistet eine schnelle und effiziente Produktion.
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