Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #149604 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V ist eine spezialisierte Photolackverarbeitungsanlage für die Lithographie in der Elektronikfertigung. Dieses System ist in der Lage, feine Muster von kleinen Komponenten, bis zu 0,35 mm in der Größe zu produzieren. TEL Mark V ist eine optische Ausrichtungseinheit, die Licht verwendet, um eine Photomaske auf dem Substrat zu belichten, wodurch Feinmuster erzeugt werden können. Ein Spiegel bietet Belichtung von der Rückseite, und ein verstellbarer Schlitz sorgt für einen feinen Fokus. Eine hochpräzise Projektionslinse projiziert das Bild der Fotomaske auf das Substrat, um das Muster zu erzeugen. Darüber hinaus wird eine High-End-CCD-Kamera zur Feinausrichtung und Korrektur der Belichtungsabweichung verwendet. TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Maschine ist in hohem Grade modular, so dass kundenspezifische Montage der Teile, um jede spezifische Anforderung zu erfüllen. Diese Flexibilität ermöglicht die Einstellung einer Vielzahl von Belichtungsparametern, einschließlich Auflösung, Fokus und Lichtbelichtung. Es verfügt über viele Funktionen, um die Genauigkeit der Lithographie zu gewährleisten. Die automatische Ausrichtungsfunktion in Verbindung mit dem hochgenauen Projektionsobjektiv führt zu einer besseren Auflösung und Belichtungsgenauigkeit. Es kann auch zur schnellen Bearbeitung großer Substrate verwendet werden. Darüber hinaus ist TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V mit einer flexiblen Benutzeroberfläche ausgelegt. Die Verwendung einer benutzerfreundlichen grafischen Benutzeroberfläche (GUI) ermöglicht eine unabhängige Steuerung und Fehlerüberwachung jedes Moduls. Darüber hinaus ermöglicht das Vorhandensein eines internen Speichers lange Belichtungen, die lange genug Prozesszeit für dickere Resistschichten ermöglichen. TOKYO ELECTRON Mark V ist ein zuverlässiges und präzises Photolackwerkzeug zur Submikron-Strukturierung. Es bietet überlegene Auflösung, Genauigkeit, Flexibilität und Leistung für fortschrittliche Lithographie- und Fertigungsprozesse. Dieses kostengünstige Photoresist-Asset ist ideal für moderne Halbleiterproduktion und fortschrittliche Forschungsanwendungen.