Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #293646085 zu verkaufen

TEL / TOKYO ELECTRON Mark V
ID: 293646085
(2) Coater / (2) Developer systems.
TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist ist ein Hochleistungs-Wafer-Fertigungssystem, das entwickelt wurde, um Photoresist-Muster auf Halbleiterscheiben schnell und präzise zu entwickeln und zu verarbeiten. TEL Mark V-Einheit verwendet fortschrittliche Laser- und Bildgebungstechnologien für schnelle, genaue und konsistente Photomasken-Wiedergabe. Es ermöglicht es Benutzern, Muster oder Designs auf einem photoresistbeschichteten Wafer mit absoluter Wiederholbarkeit und minimalem Abfall zu erstellen, zu speichern und zu reproduzieren. Die scannende Laserlithographie der Maschine ist in der Lage, mehrere Laserwellenlängen und variable Schlitzpositionen zu verwenden, wodurch komplexe Photomasken-Designs mit sehr hoher Präzision wiedergegeben werden können. Darüber hinaus kann das Tool auch so konfiguriert werden, dass es sowohl den Schritt- als auch den Wiederholungsflugmodus verwendet, um den Waferdurchsatz weiter zu verbessern. TOKYO ELECTRON MARK-V Asset ist auch mit einem erweiterten Bildaufteilungsalgorithmus ausgestattet, mit dem eine einzelne Photomaske auf viele Scheiben aufgeteilt werden kann. Diese Funktion ermöglicht es Herstellern, die Wafernutzung zu maximieren und die Durchlaufzeiten zu reduzieren. Schließlich ist das Photoresist-Modell TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V auch mit einer leistungsstarken Vision-Ausrüstung zur automatischen Inspektion der fertigen Photoresist-Muster ausgestattet. Dieses System liefert Echtzeit-Feedback über den Zustand und die Geometrie jedes Wafers, um sowohl Geschwindigkeit als auch Genauigkeit während des gesamten Prozesses sicherzustellen. Insgesamt bietet die MARK-V-Photoresist-Einheit Anwendern eine leistungsstarke, zuverlässige und kostengünstige Plattform für die Herstellung von Wafern. Seine fortschrittlichen Laser- und Bildgebungsfähigkeiten ermöglichen eine präzise und wiederholbare Photomaskenwiedergabe, Bildaufteilung und -prüfung, was zu zuverlässigen und kostengünstigen Systemen für die komplexe Musterbildung auf Halbleiterscheiben führt.
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