Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #293821345 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V ist eine Photoresist-Ausrüstung, die eine präzise Strukturierung in der Photolithographie ermöglicht. Photolithographie ist ein wichtiges Werkzeug für viele Industrien, da sie verwendet wird, um dünne Materialfilme für die Verwendung als Halbleiter, optische Dünnschichten und andere Bauelemente zu strukturieren. TEL Mark V ist ein fortschrittliches System, das über eine Vielzahl von Funktionen verfügt, um eine qualitativ hochwertige Strukturierung zu gewährleisten. TOKYO ELECTRON MARK-V verwendet eine tiefe ultraviolette (DUV) Beleuchtungsquelle, um Filme zu belichten, um das gewünschte Muster zu erzeugen. Diese Lichtquelle hat eine Wellenlänge von 248 Nanometern und wird durch die Photomaske gesendet, die einen Teil des Lichts blockiert und andere zum darunter liegenden Wafer durchlässt. Die Maske besteht aus einem Muster von opaken Bereichen oder Fenstern, die das Muster auf dem Wafer erzeugen, der dann selektiv mit Photolack beschichtet wird. Die enge Steuerung des durch die Maske hindurchtretenden Lichts ergibt ein Muster mit einer Auflösung von 0,45 Mikrometern. Die Fotomaske selbst wird über ein Vakuumfutter an der Einheit gehalten. Dadurch kann die Maske gesichert werden, ohne die Oberflächen der Fotomaske beim Handhaben und Laden der Vorrichtung zu berühren. Die Maske wird dann sowohl physikalisch als auch optisch hochpräzise entlang der x- und y-Achse ausgerichtet. Dadurch wird sichergestellt, dass die Maske vor der Belichtung und für jede weitere Belichtung korrekt ausgerichtet ist. TEL/TOKYO ELECTRON MARK-V verfügt zudem über eine automatisierte Fokusregelung. Optische Sensoren messen den Abstand von der Vorrichtung zur nachgeschalteten Oberfläche bzw. vom Fotolackfilm zur nachgeschalteten Oberfläche. Die Fokussteuerung passt dann die Höhe der Fotomaske und des Substrats an, um eine Strukturierung höchster Qualität zu gewährleisten. Schließlich verfügt Mark V über eine innovative Substratkühlmaschine, die dafür sorgt, dass der Wafer mit einer gleichmäßigen Temperatur läuft, um Veränderungen im Photolackfilm im Laufe der Zeit zu verhindern. Dies sorgt auch bei anspruchsvollsten Anwendungen für eine qualitativ hochwertige Strukturierung. All diese Funktionen machen TEL MARK-V zu einem der fortschrittlichsten Photolacksysteme auf dem Markt. Die fortschrittliche Beleuchtungsquelle, hochpräzise Ausrichtung, automatisierte Fokussteuerung und Substratkühlung Werkzeug bieten die höchste Auflösung Musterung zur Verfügung. Dieses Asset ist perfekt für jede Anwendung, die extreme Genauigkeit, konsistente Ergebnisse und Zuverlässigkeit erfordert.