Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Mark V #9054827 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Mark V Photoresist Equipment ist ein fortschrittliches, automatisiertes Beschichtungs- und Entwicklungssystem, das speziell für die Lithographie-Reflow und Photoresist-Verarbeitung entwickelt wurde. Photoresist ist ein lichtempfindliches Material, das in der Lithographie verwendet wird, um mikroskopische Muster auf Oberflächen zu erzeugen. Das Gerät ist mit fortschrittlicher intelligenter Prozesssteuerung (IPC) mit erhöhter Genauigkeit und vollständiger Temperaturregelung für höchste Präzision ausgestattet. Die Maschine ist mit einer Umweltkammer ausgestattet und nutzt eine patentierte selbstjustierende Fließtechnologie, die Substrate effizient und präzise mit optimaler Abscheidung beschichtet. Dies gewährleistet eine gleichmäßige Beschichtung und gleichmäßige Leistung über einen weiten Temperaturbereich. Das Tool ist auch mit fortschrittlicher Bildgebungstechnologie ausgestattet, die präzise rezeptgesteuerte Positionen und einheitliche Wafer bietet. Außerdem erleichtert ein Überzugdoppelpositionierungsmechanismus der hohen Kapazität Substratverarbeitung, während ein servokontrollierter Arm die Gleichförmigkeit des Überzugs steuert. TEL Mark V asset automatisiert den gesamten Photolackprozess und beinhaltet Funktionen wie ein dynamisches Heizmodell und eine für verschiedene Anwendungen einstellbare Waver Thermal Control. Die Hochgeschwindigkeitsanlage nach der Abscheidung erhöht den Produktionsdurchsatz und ermöglicht eine größere Anzahl von Oberflächen mit weniger Beanspruchung der Substrate. Darüber hinaus verfügt das System über eine fortschrittliche Laserabtasteinheit mit der Fähigkeit, Lithographiemuster genau zu erfassen und bewegliche Elemente entsprechend dem Muster zu steuern. TOKYO ELECTRON MARK-V Photoresist Maschine hat einen Hochleistungs-Reinigungszyklus und bietet eine sichere, effektive Schicht von Photoresist zu einer Vielzahl von Substraten. Die integrierte Prozesssteuerung bietet direkte und Überwachung der Operationen, die ständige Anpassung und Optimierung der Parameter, um höchste Qualitätsergebnisse zu gewährleisten. Dies sorgt für konsistentere Leistung, bessere Erträge und letztlich für eine höhere Gesamteffizienz. MARK-V-Werkzeug ist entworfen, um den Prozessdurchsatz mit minimalem Substratverlust zu maximieren und kann mit vorhandenen Photolithographie-Ausrüstung integriert werden, um die höchste Genauigkeit zu bieten.